WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2014083871) APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/083871    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/066019
Date de publication : 05.06.2014 Date de dépôt international : 11.06.2013
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G01B 11/00 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD. [JP/JP]; Tenjinkita-machi 1-1, Teranouchi-agaru 4-chome, Horikawa-dori, Kamigyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6028585 (JP)
Inventeurs : TAKEUCHI, Makoto; (JP).
FURUYA, Yoshio; (JP).
NAKANISHI, Kenji; (JP)
Mandataire : FURIKADO, Shoichi; 4F TAKAGI BLDG., 1-19, Nishitenma 5-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300047 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-260820 29.11.2012 JP
Titre (EN) EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION
(JA) 露光装置、露光方法
Abrégé : front page image
(EN)The present invention makes it possible to perform suitable exposure of a substrate (W) by accurately controlling, irrespective of a temperature change of the atmosphere, a position from which a laser beam is to be inputted to a spatial light modulator (41), and a position from which a laser beam is to be radiated to the substrate (W). Even if a temperature of the atmosphere is changed in a lighting system (S5), the position from which the light is to be inputted to the spatial light modulator (41) can be accurately adjusted by detecting an optical path change due to the temperature change, and correcting the optical path on the basis of the detection results. Even if a temperature of the atmosphere is changed in a projection system (S4), the position from which the laser beam is to be radiated to the substrate (W) can be accurately adjusted by detecting an optical path change due to the temperature change, and correcting the optical path on the basis of the detection results.
(FR)La présente invention permet d'effectuer l'exposition adéquate d'un substrat (W) en contrôlant de manière précise, quel que soit le changement de température de l'atmosphère, une position depuis laquelle un faisceau laser doit être transmis à un modulateur de lumière spatiale (41), et une position depuis laquelle un faisceau laser doit être irradié jusqu'audit substrat (W). Même si la température de l'atmosphère change dans un système d'éclairage (S5), la position depuis laquelle la lumière doit être transmise audit modulateur de lumière spatiale (41) peut être réglée avec précision en détectant un changement de trajet optique dû au changement de température, et en corrigeant ledit trajet optique sur la base des résultats de la détection. Même si la température de l'atmosphère change dans un système de projection (S4), la position depuis laquelle ledit faisceau laser doit être irradié vers ledit substrat (W) peut être réglée avec précision en détectant un changement de trajet optique dû au changement de température, et en corrigeant ledit trajet optique sur la base des résultats de la détection.
(JA) 雰囲気の温度変化によらず、空間光変調器41のレーザ光の入射位置および基板Wへのレーザ光の照射位置を的確に制御して、基板Wの適切な露光が可能となる。 照明系S5で雰囲気の温度変化が生じたとしても、温度変化に起因した光路の変動を検出して、この検出結果に基づいて光路を補正することで、空間光変調器41への光の入射位置を的確に調整できる。投影系S4で雰囲気の温度変化が生じたとしても、温度変化に起因した光路の変動を検出して、この検出結果に基づいて光路を補正することで、基板Wへのレーザ光の照射位置を的確に調整できる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)