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1. (WO2014083728) DISPOSITIF DE PULVÉRISATION ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/083728    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/004975
Date de publication : 05.06.2014 Date de dépôt international : 23.08.2013
CIB :
C23C 14/34 (2006.01)
Déposants : CANON ANELVA CORPORATION [JP/JP]; 2-5-1, Kurigi, Asao-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2158550 (JP)
Inventeurs : ISHIHARA, Shigenori; (JP).
KONAGA, Kazuya; (JP).
TOYA, Hiroyuki; (JP).
SUDA, Shintaro; (JP).
YASUMATSU, Yasushi; (JP).
FUJIMOTO, Yuu; (JP).
NAKAZAWA, Toshikazu; (JP).
NAKAMURA, Eiji; (JP).
IMAI, Shin; (JP)
Mandataire : OHTSUKA, Yasunori; 7th Fl., Kioicho Park Bldg., 3-6, Kioicho, Chiyoda-ku, Tokyo 1020094 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-263648 30.11.2012 JP
Titre (EN) SPUTTERING DEVICE AND SUBSTRATE TREATMENT DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE PULVÉRISATION ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) スパッタリング装置および基板処理装置
Abrégé : front page image
(EN)This sputtering device contains the following: a chamber; a substrate holder that can hold a substrate inside said chamber and can rotate about an axis perpendicular to the surface that holds the substrate; first through fourth target holders for holding targets; and a shutter unit. The substrate is conveyed, via a gate valve, between a space inside the chamber and a space outside the chamber. The first through fourth target holders are laid out, on an imaginary circle centered on the abovementioned axis, at the vertices of an imaginary rectangle that has long sides and short sides and is inscribed in said imaginary circle. The first and second target holders are positioned, respectively, at two vertices that define one of the short sides of the imaginary rectangle, and the first and second target holders are closer to the gate valve than the third and fourth target holders are.
(FR)L'invention concerne un dispositif de pulvérisation comprenant les éléments suivants : une chambre ; un support de substrat qui peut maintenir un substrat à l'intérieur de ladite chambre et peut tourner autour d'un axe perpendiculaire à la surface qui maintient le substrat ; des premier à quatrième supports de cible pour maintenir des cibles ; et une unité d'obturateur. Le substrat est transporté, par l'intermédiaire d'un robinet-vanne, entre un espace à l'intérieur de la chambre et un espace à l'extérieur de la chambre. Les premier à quatrième supports de cible sont disposés, sur un cercle imaginaire centré sur l'axe susmentionné, au niveau des sommets d'un rectangle imaginaire qui a des côtés longs et des côtés courts et est inscrit dans ledit cercle imaginaire. Les premier et deuxième supports de cible sont positionnés, respectivement, au niveau de deux sommets qui définissent un des côtés courts du rectangle imaginaire, et les premier et deuxième supports de cible sont plus rapprochés du robinet-vanne que ne le sont les troisième et quatrième supports de cible.
(JA)スパッタリング装置は、チャンバと、前記チャンバの中で基板を保持可能であり前記基板を保持する面に直交する軸を中心として回転可能な基板ホルダと、それぞれターゲットを保持するための第1乃至第4ターゲットホルダと、シャッターユニットとを有し、ゲートバルブを介して前記チャンバの内部空間と外部空間との間で前記基板が搬送される。前記第1乃至第4のターゲットホルダは、前記軸を中心とする1つの仮想円上、かつ、長辺及び短辺を有し前記仮想円に内接する仮想長方形の頂点上に配置され、前記第1ターゲットホルダおよび前記第2ターゲットホルダは、前記仮想長方形の1つの短辺を定める2つの頂点にそれぞれ配置され、かつ、前記ゲートバルブまでの距離が前記第3ターゲットホルダおよび前記第4ターゲットホルダから前記ゲートバルブまでの距離より小さい。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)