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1. (WO2014083727) DISPOSITIF DE PULVÉRISATION CATHODIQUE ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT D'UN SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/083727    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/004974
Date de publication : 05.06.2014 Date de dépôt international : 23.08.2013
CIB :
C23C 14/34 (2006.01)
Déposants : CANON ANELVA CORPORATION [JP/JP]; 2-5-1, Kurigi, Asao-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2158550 (JP)
Inventeurs : ISHIHARA, Shigenori; (JP).
TOYA, Hiroyuki; (JP).
YASUMATSU, Yasushi; (JP).
NAKAZAWA, Toshikazu; (JP).
NAKAMURA, Eiji; (JP).
SUDA, Shintaro; (JP).
IMAI, Shin; (JP).
FUJIMOTO, Yuu; (JP)
Mandataire : OHTSUKA, Yasunori; 7th Fl., Kioicho Park Bldg., 3-6, Kioicho, Chiyoda-ku, Tokyo 1020094 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-263649 30.11.2012 JP
Titre (EN) SPUTTERING DEVICE AND SUBSTRATE TREATMENT DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE PULVÉRISATION CATHODIQUE ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT D'UN SUBSTRAT
(JA) スパッタリング装置および基板処理装置
Abrégé : front page image
(EN)This sputtering device is provided with a shutter unit, a plurality of target holders, and a substrate holder that is capable of rotating about an axis perpendicular to a surface that holds a substrate. The shutter unit contains a first shutter and a second shutter, said first shutter having a first opening and a second opening and said second shutter having a third opening and a fourth opening. The target holders are laid out on a first imaginary circle centered on the abovementioned axis, and the set of distances between the target holders along the first imaginary circle contains at least two different distances. The central angle of an arc extending from the center of the aforementioned first opening to the center of the aforementioned second opening along a second imaginary circle is equal to the central angle of an arc extending from the center of the aforementioned third opening to the center of the aforementioned fourth opening along a third imaginary circle and is also equal to the central angle of an arc extending from the center of a first target holder to the center of a second target holder, said first and second target holders being the target holders that are the farthest away from each other along the first imaginary circle.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de pulvérisation cathodique pourvu d'une unité d'obturation, d'une pluralité de supports de cible, et d'un support de substrat qui peut tourner autour d'un axe perpendiculaire à une surface qui maintient un substrat. L'unité d'obturation contient un premier obturateur et un second obturateur, ledit premier obturateur comportant une première ouverture et une deuxième ouverture et ledit second obturateur comportant une troisième ouverture et une quatrième ouverture. Les supports de cible sont disposés selon un premier cercle imaginaire centré sur l'axe susmentionné, et la série de distances entre les supports de cible le long du premier cercle imaginaire contient au moins deux distances différentes. L'angle au centre d'un arc s'étendant depuis le centre de ladite première ouverture jusqu'au centre de ladite deuxième ouverture le long d'un deuxième cercle imaginaire est égal à l'angle au centre d'un arc s'étendant depuis le centre de ladite troisième ouverture jusqu'au centre de ladite quatrième ouverture le long d'un troisième cercle imaginaire et est aussi égal à l'angle au centre d'un arc s'étendant depuis le centre d'un premier support de cible jusqu'au centre d'un deuxième support de cible, lesdits premier et deuxième support de cible étant les supports de cible qui sont les plus éloignés l'un de l'autre le long du premier cercle imaginaire.
(JA)スパッタリング装置は、シャッターユニットと、複数のターゲットホルダと、基板を保持する面に直交する軸を中心として回転可能な基板ホルダとを備える。前記シャッターユニットは、第1開口と第2開口を有する第1シャッターと、第3開口と第4開口とを有する第2シャッターを含み、前記複数のターゲットホルダは、前記軸を中心とする第1仮想円上に配置され、前記第1仮想円上における前記複数のターゲットホルダの配置間隔は、少なくとも2種類の配置間隔を含む。第2仮想円上における前記第1開口の中心と前記第2開口の中心とを弧の両端とする中心角は、第3仮想円における前記第3開口の中心と前記第4開口の中心とを弧の両端とする中心角と等しく、且つ、前記複数のターゲットホルダのうち前記第1仮想円上における互いの間隔が最も大きい第1ターゲットホルダの中心と第2ターゲットホルダの中心とを弧の両端とする中心角と等しい。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)