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1. (WO2014082938) PROCÉDÉ PERMETTANT DE DÉTERMINER UNE DOSE ET UNE MISE AU POINT, APPAREIL DE CONTRÔLE, DISPOSITIF DE FORMATION DE MOTIF, SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/082938    N° de la demande internationale :    PCT/EP2013/074516
Date de publication : 05.06.2014 Date de dépôt international : 22.11.2013
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Inventeurs : VANOPPEN, Peter; (BE).
BROUWER, Eric; (NL).
CRAMER, Hugo; (NL).
DEN BESTEN, Jan; (NL).
ENGELEN, Adrianus; (NL).
HINNEN, Paul; (NL)
Mandataire : BROEKEN, Petrus; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Données relatives à la priorité :
61/731,947 30.11.2012 US
61/746,384 27.12.2012 US
Titre (EN) METHOD OF DETERMINING DOSE AND FOCUS, INSPECTION APPARATUS, PATTERNING DEVICE, SUBSTRATE AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉ PERMETTANT DE DÉTERMINER UNE DOSE ET UNE MISE AU POINT, APPAREIL DE CONTRÔLE, DISPOSITIF DE FORMATION DE MOTIF, SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Abrégé : front page image
(EN)A method of determining exposure dose of a lithographic apparatus used in a lithographic process on a substrate. Using the lithographic process to produce a first structure on the substrate, the first structure having a dose-sensitive feature which has a form that depends on exposure dose of the lithographic apparatus on the substrate. Using the lithographic process to produce a second structure on the substrate, the second structure having a dose-sensitive feature which has a form that depends on the exposure dose of the lithographic apparatus but which has a different sensitivity to the exposure dose than the first structure. Detecting scattered radiation while illuminating the first and second structures with radiation to obtain first and second scatterometer signals. Using the first and second scatterometer signals to determine an exposure dose value used to produce at least one of the first and second structures.
(FR)La présente invention se rapporte à un procédé permettant de déterminer une dose d'exposition d'un appareil lithographique utilisé dans un procédé lithographique sur un substrat. En utilisant le procédé lithographique pour produire une première structure sur le substrat, la première structure présente un élément sensible à la dose qui a une forme qui dépend de la dose d'exposition de l'appareil lithographique sur le substrat. En utilisant le procédé lithographique pour produire une seconde structure sur le substrat, la seconde structure présente un élément sensible à la dose qui a une forme qui dépend de la dose d'exposition de l'appareil lithographique mais qui présente une sensibilité à la dose d'exposition différente de celle de la première structure. Le procédé consiste à détecter un rayonnement diffusé tout en éclairant les première et seconde structures avec un rayonnement afin d'obtenir des premier et second signaux de diffusomètre. Le procédé consiste à utiliser les premier et second signaux de diffusomètre pour déterminer une valeur de dose d'exposition utilisée pour produire au moins l'une des première et seconde structures.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)