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1. (WO2014082110) PROCÉDÉ DE PRODUCTION CHIMIQUE PAR PLASMA DE CHLOROSILANES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/082110    N° de la demande internationale :    PCT/AT2013/050228
Date de publication : 05.06.2014 Date de dépôt international : 27.11.2013
CIB :
C01B 33/107 (2006.01)
Déposants : ACTIV SOLAR GMBH [AT/AT]; Wipplingerstraße 35 A-1010 Wien (AT)
Inventeurs : LIPPOLD, Gerd; (DE).
MERKER, Rolf; (DE).
HARTER, Johann; (DE)
Mandataire : SONN & PARTNER PATENTANWÄLTE; Riemergasse 14 A-1010 Wien (AT)
Données relatives à la priorité :
A 50545/2012 27.11.2012 AT
Titre (DE) VERFAHREN ZUR PLASMACHEMISCHEN HERSTELLUNG VON CHLORSILANEN
(EN) METHOD FOR THE PLASMA-CHEMICAL PRODUCTION OF CHLOROSILANES
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION CHIMIQUE PAR PLASMA DE CHLOROSILANES
Abrégé : front page image
(DE)Beschrieben wird ein Verfahren zur Herstellung von Chlorsilanen, insbesondere von Siliziumtetrachlorid und/oder Trichlorsilan, mittels Carbochlorierung aus SiO2, C, Cl und/oder HCl als Reaktionspartner, wobei die Reaktion zur Bildung eines Produktgemisches in einer Reaktionszone innerhalb einer aus einer Plasmaquelle stammenden thermischen Plasmafackel stattfindet.
(EN)The invention relates to a method for producing chlorosilanes, in particular silicon tetrachloride and/or trichlorosilane, by means of carbochlorination from SiO2, C, Cl and/or HCl as a reaction partner, wherein the reaction to form a product mixture in a reaction zone takes place inside a thermal plasma torch that stems from a plasma source.
(FR)L'invention concerne un procédé de production de chlorosilanes, en particulier de tétrachlorure de silicium et/ou de trichlorosilane, par carbochloration à partir de SiO2, C, Cl et/ou HCl en tant que partenaires réactionnels, la réaction de formation d'un mélange de produits se déroulant dans une zone réactionnelle à l'intérieur d'un jet de plasma thermique provenant d'une source de plasma.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)