WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2014081909) MÉTROLOGIE IN-SITU
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/081909    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/071143
Date de publication : 30.05.2014 Date de dépôt international : 21.11.2013
CIB :
G01N 21/88 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01), G01B 11/30 (2006.01)
Déposants : KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; KLA-TENCOR CORPORATION Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035 (US)
Inventeurs : AMIR, Nuriel; (IL)
Mandataire : MCANDREWS, Kevin; KLA-TENCOR CORP. Legal Department One Technology Drive Milpitas, CA 95035 (US)
Données relatives à la priorité :
61/729,327 21.11.2012 US
Titre (EN) IN-SITU METROLOGY
(FR) MÉTROLOGIE IN-SITU
Abrégé : front page image
(EN)Metrology methods and systems are provided, which measure metrology targets during the exposure stage using reflected or diffracted exposure illumination or additional simultaneous illumination having longer wavelengths than the exposure illumination. The metrology measurements are used to correct the lithographic process in a short loop, enabling realtime and even predictive error correction. The metrology methods, tools and systems also include defect detection during the exposure stage.
(FR)L'invention concerne des systèmes et des procédés de métrologie, qui permettent de mesurer des cibles de métrologie au cours de l'étape d'exposition, à l'aide d'un éclairement d'exposition réfléchi ou diffracté ou d'un éclairement simultané supplémentaire ayant des longueurs d'onde plus longues que l'éclairement d'exposition. Les mesures de métrologie sont utilisées pour corriger le procédé lithographique dans une boucle courte, ce qui permet une correction d'erreurs en temps réel, et même une correction d'erreurs prédictive. Les procédés, outils et systèmes de métrologie selon l'invention permettent également la détection de défauts au cours de l'étape d'exposition.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)