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1. (WO2014081897) PROCÉDÉ ET SYSTÈME POUR MÉTROLOGIE ET INSPECTION BASÉES SUR CIBLE UNIVERSELLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/081897    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/071108
Date de publication : 30.05.2014 Date de dépôt international : 20.11.2013
CIB :
H01L 21/66 (2006.01)
Déposants : KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035 (US)
Inventeurs : PARK, Allen; (US).
CHANG, Ellis; (US).
ADEL, Mike; (IL).
BASHKAR, Kris; (US).
LEVY, Ady; (US).
WIDMANN, Amir; (IL).
WAGNER, Mark; (IL).
RONG, Songnian; (US)
Mandataire : MCANDREWS, Kevin; KLA-TENCOR CORP. Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035 (US)
Données relatives à la priorité :
61/728,768 20.11.2012 US
14/083,126 18.11.2013 US
Titre (EN) METHOD AND SYSTEM FOR UNIVERSAL TARGET BASED INSPECTION AND METROLOGY
(FR) PROCÉDÉ ET SYSTÈME POUR MÉTROLOGIE ET INSPECTION BASÉES SUR CIBLE UNIVERSELLE
Abrégé : front page image
(EN)Universal target based inspection drive metrology includes designing a plurality of universal metrology targets measurable with an inspection tool and measurable with a metrology tool, identifying a plurality of inspectable features within at least one die of a wafer using design data, disposing the plurality of universal targets within the at least one die of the wafer, each universal target being disposed at least proximate to one of the identified inspectable features, inspecting a region containing one or more of the universal targets with an inspection tool, identifying one or more anomalistic universal targets in the inspected region with an inspection tool and, responsive to the identification of one or more anomalistic universal targets in the inspected region, performing one or more metrology processes on the one or more anomalistic universal metrology targets with the metrology tool.
(FR)L'invention concerne une métrologie d'inspection basée sur cible universelle comprenant la conception d'une pluralité de cibles de métrologie universelles mesurables à l'aide d'un outil d'inspection et mesurables à l'aide d'un outil de métrologie, l'identification d'une pluralité de caractéristiques pouvant être inspectées au sein d'au moins une puce d'une plaquette à l'aide de données de conception, le placement de la pluralité de cibles universelles au sein de l'au moins une puce de la plaquette, chaque cible universelle étant placée au moins à proximité de l'une des caractéristiques pouvant être inspectées identifiées, l'inspection d'une région contenant au moins une cible universelle à l'aide d'un outil d'inspection, l'identification d'au moins une cible universelle anomalistique dans la région inspectée à l'aide d'un outil d'inspection et, en réponse à l'identification d'au moins une cible universelle anomalistique dans la région inspectée, l'exécution d'au moins un processus de métrologie sur l'au moins une cible de métrologie universelle anomalistique à l'aide de l'outil de métrologie.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)