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1. (WO2014080957) DISPOSITIF D'EXPOSITION, DISPOSITIF MOBILE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIFS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/080957    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/081323
Date de publication : 30.05.2014 Date de dépôt international : 20.11.2013
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), G05D 3/00 (2006.01), H01L 21/68 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP)
Inventeurs : MIYAKAWA, Tomoki; (JP)
Mandataire : TATEISHI, Atsuji; TATEISHI & CO., Karakida Center Bldg., 1-53-9, Karakida, Tama-shi, Tokyo 2060035 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-253984 20.11.2012 JP
Titre (EN) EXPOSURE DEVICE, MOBILE DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) DISPOSITIF D'EXPOSITION, DISPOSITIF MOBILE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIFS
(JA) 露光装置、移動体装置、及びデバイス製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A stage drive system (124), which is a magnetic levitation-type planar motor, is controlled according to measurement results of an encoder system so as to perform drive control of a wafer stage (WST), and if an abnormality in the drive control of the wafer stage (WST) is detected, the stage drive system (124) is controlled so as to apply thrust to the wafer stage (WST) in the vertical direction. Thus, chipping of the wafer stage (WST) can be avoided, and damage to the wafer stage (WST) (in particular, a scale disposed on top of the stage) and a structure (in particular, an encoder head etc.) positioned directly above the wafer stage can be prevented.
(FR)L'invention concerne un système (124) d'entraînement de platine, constitué d'un moteur plan à sustentation magnétique et commandé en fonction de résultats de mesure d'un système de codeurs de façon à effectuer la commande d'entraînement d'une platine pour tranches (WST) et, si une anomalie dans la commande d'entraînement de la platine pour tranches (WST) est détectée, le système (124) d'entraînement de platine est commandé de façon à appliquer une poussée à la platine pour tranches (WST) dans la direction verticale. Ainsi, l'ébréchage de la platine pour tranches (WST) peut être évité, et des dégâts occasionnés à la platine pour tranches (WST) (en particulier une écaille disposée sur le dessus de la platine) et à une structure (en particulier une tête de codeur, etc.) positionnée immédiatement au-dessus de la platine pour tranche peuvent être empêchés.
(JA) エンコーダシステムの計測結果に従って磁気浮上型平面モータであるステージ制御系(124)を制御してウエハステージ(WST)を駆動制御するとともに、ウエハステージ(WST)の駆動制御の異常を検知した場合、ステージ駆動系(124)を制御して、ウエハステージ(WST)に鉛直方向の推力を加える。これにより、ウエハステージ(WST)のピッチングを回避することができ、ウエハステージ(WST)(特に、ステージ上面に設けられたスケール)及びその直上に配置された構造物(特にエンコーダヘッド等)の破損を防止することが可能となる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)