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1. (WO2014080917) PROCÉDÉ DE NETTOYAGE DE SUBSTRAT DE VERRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/080917    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/081203
Date de publication : 30.05.2014 Date de dépôt international : 19.11.2013
CIB :
C03C 23/00 (2006.01), C11D 1/44 (2006.01), C11D 3/20 (2006.01), C11D 3/34 (2006.01), C11D 3/36 (2006.01), G02F 1/1333 (2006.01)
Déposants : ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP).
PARKER CORPORATION [JP/JP]; 22-1, Nihonbashi-Ningyocho 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038588 (JP)
Inventeurs : ENOMOTO, Hisao; (JP).
SAHARA, Koji; (JP).
ISHIKAWA, Chiaki; (JP).
KIYAMA, Atsushi; (JP).
MAEYANAGI, Yoshitaka; (JP).
TAKENAKA, Atsuyoshi; (JP).
KOBAYASHI, Daisuke; (JP).
TAKAHASHI, Hideyuki; (JP).
NAKAJIMA, Youji; (JP)
Mandataire : SENMYO, Kenji; 4th Floor, SIA Kanda Square, 17, Kanda-konyacho, Chiyoda-ku, Tokyo 1010035 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-256714 22.11.2012 JP
Titre (EN) GLASS SUBSTRATE CLEANING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE NETTOYAGE DE SUBSTRAT DE VERRE
(JA) ガラス基板の洗浄方法
Abrégé : front page image
(EN)A method for cleaning a glass substrate after polishing, wherein a decrease in adhesion performance of a resin BM film formed on the cleaned glass substrate surface is suppressed and peeling of the resin BM film is prevented. A glass substrate cleaning method, characterized in that a glass substrate polished using a polishing agent containing cerium oxide particles is washed using an acidic aqueous cleaning liquid containing an organic acid and then washed using an alkaline aqueous cleaning liquid containing a base.
(FR)L'invention concerne un procédé de nettoyage d'un substrat de verre après polissage, permettant de supprimer la réduction des performances d'adhérence d'un film BM de résine formé sur le substrat de verre nettoyé et d'empêcher le décollement du film BM de résine. Le procédé de nettoyage selon l'invention se caractérise en ce qu'un substrat de verre poli au moyen d'un agent de polissage contenant des particules d'oxyde de cérium est lavé au moyen d'un liquide de nettoyage aqueux acide contenant un acide organique, puis lavé au moyen d'un liquide de nettoyage aqueux alcalin contenant une base.
(JA) 研磨後のガラス基板の洗浄方法において、洗浄されたガラス基板表面に形成される樹脂BM膜の密着性低下を抑制して、樹脂BM膜の剥れを防止する。 酸化セリウム粒子を含有する研磨剤により研磨されたガラス基板を、有機酸を含む酸性の水系洗浄液により洗浄し、次いで塩基を含むアルカリ性の水系洗浄液により洗浄することを特徴とするガラス基板の洗浄方法である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)