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1. (WO2014080851) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, MÉCANISME D'OUVERTURE ET DE FERMETURE DE COUVERCLE, MÉCANISME DE PROTECTION ET PROCÉDÉ PERMETTANT DE PURGER L'INTÉRIEUR D'UN CONTENANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/080851    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/080969
Date de publication : 30.05.2014 Date de dépôt international : 12.11.2013
CIB :
H01L 21/677 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP)
Inventeurs : WAKABAYASHI, Shinji; (JP)
Mandataire : BECCHAKU, Shigehisa; Matsuoka Tamuracho Bldg. 7th Floor, 22-10, Shinbashi 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1050004 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-256778 22.11.2012 JP
Titre (EN) SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, COVER OPENING AND CLOSING MECHANISM, SHIELDING MECHANISM, AND METHOD FOR PURGING INSIDE OF CONTAINER
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, MÉCANISME D'OUVERTURE ET DE FERMETURE DE COUVERCLE, MÉCANISME DE PROTECTION ET PROCÉDÉ PERMETTANT DE PURGER L'INTÉRIEUR D'UN CONTENANT
(JA) 基板処理装置、蓋開閉機構、遮蔽機構及び容器の内部パージ方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a substrate processing device that can suppress the amount of inert gas and dry gas used and also can prevent reductions in throughput. A substrate processing device (10) is provided with: a loader module (13); an opener (42) that removes a cover (32) from a FOUP (30) having a main body (31), an opening part (33), and a cover (32) and forms a link between the inside of the FOUP (30) and the inside of the loader module (13) via the opening part (33); an N2 gas supply unit (47) that is attached to the loader module (13) and supplies N2 gas to the inside of the FOUP (30); and two plate-shaped slide covers (43, 44) that move freely of each other along an opening surface of the opening part (33). The slide covers (43, 44) shield the opening part (33) of the FOUP (30) that is attached to the loader module (13) from the inside of the loader module (13) by approaching each other until the gap therebetween is 1 - 3 mm.
(FR)La présente invention se rapporte à un dispositif de traitement de substrat qui peut supprimer la quantité de gaz inerte et de gaz sec utilisée et peut également empêcher des réductions du débit. Un dispositif de traitement de substrat (10) comprend : un module de chargeur (13) ; un dispositif d'ouverture (42) qui retire le couvercle (32) d'un FOUP (30) comportant un corps principal (31), une partie qui s'ouvre (33) et un couvercle (32) et forme une liaison entre l'intérieur du FOUP (30) et l'intérieur du module de chargeur (13) par l'intermédiaire de la partie qui s'ouvre (33) ; une unité d'alimentation en diazote gazeux (N2) (47) qui est fixée au module de chargeur (13) et fournit le diazote gazeux (N2) à l'intérieur de la nacelle unifiée à ouverture frontale (FOUP) (30) ; et deux couvercles coulissants en forme de plaque (43, 44) qui se déplacent librement l'un par rapport à l'autre le long d'une surface d'ouverture de la partie qui s'ouvre (33). Les couvercles coulissants (43, 44) protègent la partie qui s'ouvre (33) de la nacelle FOUP (30) qui est fixée au module de chargeur depuis l'intérieur du module de chargeur (13) en les rapprochant l'un de l'autre jusqu'à ce que l'espace entre ces derniers fasse entre 1 et 3 mm.
(JA)不活性ガスやドライガスの使用量を抑制することができるとともに、スループットの低下を防止することができる基板処理装置を提供する。基板処理装置(10)は、ローダモジュール(13)と、本体(31)、開口部(33)及び蓋(32)を有するFOUP(30)から蓋(32)を外してFOUP(30)の内部を開口部(33)を介してローダモジュール(13)の内部と連通させるオープナー(42)と、ローダモジュール(13)に取り付けられたFOUP(30)の内部へN2ガスを供給するN2ガス供給ユニット(47)と、開口部(33)の開口面に沿って互いに自在に移動する2つの板状のスライド蓋(43、44)とを備え、スライド蓋(43、44)は、互いの隙間が1mm~3mmとなるまで互いに接近することにより、ローダモジュール(13)に取り付けられたFOUP(30)の開口部(33)をローダモジュール(13)の内部から遮蔽する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)