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1. (WO2014080815) APPAREIL DE PULVÉRISATION CATHODIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/080815    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/080646
Date de publication : 30.05.2014 Date de dépôt international : 13.11.2013
CIB :
C23C 14/35 (2006.01)
Déposants : ULVAC, INC. [JP/JP]; 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543 (JP)
Inventeurs : USAMI, Tatsumi; (JP).
MATSUZAKI, Junsuke; (JP).
TAKAHASHI, Hirohisa; (JP).
SAITOU, Kazuya; (JP).
FUJII, Tomoharu; (JP).
KAKUCHI, Hisashi; (JP)
Mandataire : ONDA, Makoto; 12-1, Ohmiya-cho 2-chome, Gifu-shi, Gifu 5008731 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-254608 20.11.2012 JP
Titre (EN) SPUTTERING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE PULVÉRISATION CATHODIQUE
(JA) スパッタ装置
Abrégé : front page image
(EN)This sputtering apparatus is provided with: an anode (54); a cathode (22, 23) that includes a board-shaped target (22); a magnetic circuit (25) having the position thereof fixed with respect to the anode (54); a power supply that supplies power to the cathode; a displacement unit (21) that changes, by swinging the target (22), the position of the target with respect to the magnetic circuit (25) without changing the position of the magnetic circuit (25) with respect to the anode (54); and a control unit (10C) that sputters the target (22) at positions different from each other by controlling drive of the power supply and drive of the displacement unit (21).
(FR)La présente invention se rapporte à un appareil de pulvérisation cathodique qui comprend : une anode (54) ; une cathode (22, 23) qui comprend une cible en forme de plaque (22) ; un circuit magnétique (25) dont la position est fixée par rapport à l'anode (54) ; une alimentation électrique qui fournit un courant à la cathode ; une unité de déplacement (21) qui modifie, par oscillation de la cible (22), la position de la cible par rapport au circuit magnétique (25) sans modifier la position du circuit magnétique (25) par rapport à l'anode (54) ; et une unité de commande (10C) qui pulvérise la cible (22) à des positions différentes les unes des autres par contrôle de la commande de l'alimentation électrique et de la commande de l'unité de déplacement (21).
(JA)スパッタ装置は、アノード(54)と、板状をなすターゲット(22)を含むカソード(22,23)と、アノード(54)に対する位置が固定された磁気回路(25)と、カソードに電力を供給する電源と、アノード(54)に対する磁気回路(25)の位置を変えることなく、磁気回路(25)に対するターゲット(22)の位置をターゲットの揺動によって変える変位部(21)と、電源の駆動と変位部(21)の駆動とを制御して相互に異なる位置でターゲット(22)をスパッタする制御部(10C)とを備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)