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1. (WO2014080673) DISPOSITIF IMAGEUR ET PROCÉDÉ DE DÉTERMINATION DE L'EXPOSITION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/080673    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/073390
Date de publication : 30.05.2014 Date de dépôt international : 30.08.2013
CIB :
G02B 7/28 (2006.01), G02B 7/34 (2006.01), G03B 13/36 (2006.01), H04N 5/232 (2006.01), H04N 5/238 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : INOUE Kazuki; (JP).
IWASAKI Yoichi; (JP).
AOKI Takashi; (JP)
Mandataire : TAKAMATSU Takeshi; Koh-Ei Patent Firm, Toranomon East Bldg. 9F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-254317 20.11.2012 JP
Titre (EN) IMAGING DEVICE AND EXPOSURE DETERMINATION METHOD
(FR) DISPOSITIF IMAGEUR ET PROCÉDÉ DE DÉTERMINATION DE L'EXPOSITION
(JA) 撮像装置及び露出決定方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is an imaging device that appropriately exposes phase-detection pixels to perform phase-detection AF with high precision. A system control unit (11) selects, from among phase-detection pixels (51R, 51L) in a selected AF area (52), phase-detection pixels appropriate to the position of the selected AF area (52) in a row direction (X). The system control unit (11) then determines exposure conditions on the basis of output signals from the selected pixels. An out-of-focus-amount computation unit (19) computes an out-of-focus amount using output signals from the phase-detection pixels (51R, 51L) in the selected AF area (52), said output signals being part of a taken-image signal obtained by using an imaging element (5) to take an image using the exposure conditions determined by the system control unit (11).
(FR)La présente invention concerne un dispositif imageur qui assure une exposition appropriée de pixels de détection de phase pour effectuer un autofocus de détection de phase de haute précision. Une unité de commande de système (11) sélectionne, parmi des pixels (51R, 51L) de détection de phase dans une zone d'autofocus sélectionnée (52), des pixels de détection de phase appropriés à la position de la zone d'autofocus sélectionnée (52) dans une direction de rangée (X). L'unité de commande de système (11) détermine ensuite des conditions d'exposition sur la base des signaux de sortie provenant des pixels sélectionnés. Une unité de calcul de la quantité hors foyer (19) calcule une quantité hors foyer à l'aide des signaux de sortie provenant des pixels de détection de phase (51R, 51L) dans la zone d'autofocus sélectionnée (52), lesdits signaux de sortie faisant partie d'un signal d'image prise obtenu à l'aide d'un élément imageur (5), pour prendre une image à l'aide des conditions d'exposition déterminées par l'unité de commande de système (11).
(JA) 位相差検出用の画素を適正に露光して位相差AFを高精度に行う撮像装置を提供する。システム制御部11は、選択されたAFエリア52にある位相差検出用画素51R,51Lの中から、選択されたAFエリア51の行方向Xでの位置に応じた位相差検出用画素を選択し、選択した画素の出力信号に基づいて露出条件を決定する。デフォーカス量演算部19は、システム制御部11によって決定された露出条件で撮像素子5により撮像を行って得られる撮像画像信号のうち、選択されたAFエリア52にある位相差検出用画素51R,51Lの出力信号を利用してデフォーカス量を演算する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)