WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2014080601) DISPOSITIF CVD À PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/080601    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/006711
Date de publication : 30.05.2014 Date de dépôt international : 15.11.2013
CIB :
C23C 16/509 (2006.01), C23C 16/455 (2006.01), C23C 16/54 (2006.01)
Déposants : KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.) [JP/JP]; 2-4, Wakinohama-Kaigandori 2-chome, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6518585 (JP)
Inventeurs : TAMAGAKI, Hiroshi; .
OKIMOTO, Tadao;
Mandataire : KOTANI, Etsuji; Osaka Nakanoshima Building 2nd Floor, 2-2, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-254249 20.11.2012 JP
Titre (EN) PLASMA CVD DEVICE
(FR) DISPOSITIF CVD À PLASMA
(JA) プラズマCVD装置
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a plasma CVD device (C1) that can make possible use of a large film forming roll for achieving a high film forming rate, effective use of raw material gas, and stable forming of a film over a long period of time. This device is provided with: first and second film forming rolls (1, 2); a vacuum chamber (4); first and second rectifying units (11, 12) that form first and second spaces (13, 14) between the first and second film forming rolls (1, 2) and rectify the raw material gas flow in the first and second spaces (13, 14) such that the same follows the surface of a base material (W) wrapped around the film forming rolls (1, 2); and a linking unit (15) that links the plasmas formed in both spaces (13, 14) to each other by linking the first and second spaces (13, 14) with each other.
(FR)La présente invention concerne un dispositif CVD à plasma (C1) qui peut utiliser un grand rouleau de formation de film pour obtenir une vitesse de formation de film élevée, utilise efficacement une matière première gazeuse, et forme de façon stable un film pendant une longue durée. Ce dispositif comprend : des premier et deuxième rouleaux de formation de films (1, 2) ; une chambre à vide (4) ; des première et deuxième unités de rectification (11, 12) qui forment des premier et deuxième espaces (13, 14) entre les premier et deuxième rouleaux de formation de film (1, 2) et rectifient le flux de gaz de matière première dans les premier et deuxième espaces (13, 14) de telle sorte que celui-ci suive la surface d’un matériau de base (W) enroulé autour des rouleaux de formation de film (1, 2) ; et une unité de liaison (15) qui relie les plasmas formés dans les deux espaces (13, 14) l’un à l’autre en reliant les premier et deuxième espaces (13, 14) l’un à l’autre.
(JA) 高い成膜速度を実現するための大きな成膜ロールの使用と、原料ガスの有効利用と、長時間にわたる安定した皮膜形成と、をいずれも可能とするプラズマCVD装置(C1)が提供される。この装置は、第1及び第2成膜ロール(1,2)と、真空チャンバ(4)と、第1及び第2成膜ロール(1,2)との間に第1及び第2空間(13,14)を形成し、第1及び第2空間(13,14)において原料ガスの流れを成膜ロール(1,2)に巻き掛けられた基材(W)の表面に沿うように整流する第1及び第2整流部(11,12)と、第1及び第2空間(13,14)を相互に連通させることにより両空間(13,14)で形成されるプラズマ同士を連通させる連通部(15)と、を備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)