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1. (WO2014078097) MÉTHANOFULLERRÈNES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/078097    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/068021
Date de publication : 22.05.2014 Date de dépôt international : 01.11.2013
CIB :
C07C 69/753 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), B82Y 30/00 (2011.01)
Déposants : ROBINSON, Alex Philip, Graham [GB/GB]; (GB).
PREECE, Jon, Andrew [GB/GB]; (GB).
PALMER, Richard, Edward [GB/GB]; (GB).
FROMMHOLD, Andreas [DE/DE]; (DE).
YANG, Dongxu [CN/GB]; (GB).
MCCLELLAND, Alexandra [GB/GB]; (GB).
ATHENS, Drew [US/US]; (US).
XUE, Xiang [CN/US]; (US)
Inventeurs : ROBINSON, Alex Philip, Graham; (GB).
PREECE, Jon, Andrew; (GB).
PALMER, Richard, Edward; (GB).
FROMMHOLD, Andreas; (DE).
YANG, Dongxu; (GB).
MCCLELLAND, Alexandra; (GB).
ATHENS, Drew; (US).
XUE, Xiang; (US)
Mandataire : SHELNUT, James, G.; 156 Mary Catherine Drive Lancaster, MA 01523 (US)
Données relatives à la priorité :
61/726,562 14.11.2012 US
Titre (EN) METHANOFULLERENES
(FR) MÉTHANOFULLERRÈNES
Abrégé : front page image
(EN)The present disclosure relates to novel methanofullerene derivatives, negative- type photoresist compositions prepared therefrom and methods of using them. The derivatives, their photoresist compositions and the methods are ideal for fine pattern processing using, for example, ultraviolet radiation, beyond extreme ultraviolet radiation, extreme ultraviolet radiation, X-rays and charged particle rays.
(FR)La présente invention concerne de nouveaux dérivés de méthanofullerène, des compositions de photorésist de type négatif préparées à partir de ceux-ci et leurs procédés d'utilisation. Les dérivés, leurs compositions de photorésist et les procédés sont idéals pour le traitement à fins motifs à l'aide, par exemple, d'un rayonnement ultraviolet, d'un rayonnement au-delà des ultraviolets extrêmes, d'un rayonnement ultraviolet extrême, de rayons X et de rayons de particules chargées.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)