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1. (WO2014077563) DISPOSITIF DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR AYANT UNE SOURCE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR MOBILE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/077563    N° de la demande internationale :    PCT/KR2013/010245
Date de publication : 22.05.2014 Date de dépôt international : 12.11.2013
CIB :
C23C 14/24 (2006.01), C23C 16/448 (2006.01)
Déposants : BMC CO., LTD. [KR/KR]; (Jeongja-dong, Parkview), Jesangga 2003-ho ~ 2004-ho, 20 Fl., 248, Jeongjail-ro, Bundang-gu, Seongnam-si Gyeonggi-do 463-863 (KR).
HONG, Charlie [US/KR]; (KR).
LEE, Man Ho [KR/KR]; (KR)
Inventeurs : HONG, Charlie; (KR).
LEE, Man Ho; (KR)
Mandataire : MAPS INTELLECTUAL PROPERTY LAW FIRM; (Jeil Pharmaceutical Bldg., Banpo-dong), 4F, 343, Sapyoung-daero, Seocho-gu Seoul 137-810 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2012-0129289 15.11.2012 KR
Titre (EN) VAPOUR-DEPOSITION DEVICE HAVING MOBILE VAPOUR-DEPOSITION SOURCE
(FR) DISPOSITIF DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR AYANT UNE SOURCE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR MOBILE
(KO) 증착원 이동형 증착 장치
Abrégé : front page image
(EN)In a vapour-deposition device for vapour-depositing a thin film onto the surface of an object to be coated in a vacuum chamber, the vapour-deposition device comprises: a vapour-deposition source for supplying a substance for forming the thin film; a supply unit for supplying the vapour-deposition source with one or more of coolant water, a power source and process gas; and a mobile unit for moving the vapour-deposition source inside the vacuum chamber.
(FR)L'invention porte sur un dispositif de dépôt en phase vapeur pour le dépôt en phase vapeur d'une couche mince sur la surface d'un objet devant être revêtu dans une chambre à vide, le dispositif de dépôt en phase vapeur comprenant : une source de dépôt en phase vapeur pour l'apport d'une substance pour la formation de la couche mince ; une unité d'apport pour l'apport de la source de dépôt en phase vapeur comprenant un ou plusieurs des éléments suivants : de l'eau de refroidissement, une source d'alimentation électrique et du gaz de traitement ; et une unité mobile pour le déplacement de la source de dépôt en phase vapeur à l'intérieur de la chambre à vide.
(KO)진공 챔버 내에서 피코팅물의 표면에 박막을 증착시키는 증착 장치에 있어서, 증착 장치는, 상기 박막을 형성시키기 위한 물질을 공급하는 증착원; 상기 증착원에 냉각수, 전원, 및 공정가스 중 적어도 어느 하나 이상을 공급하는 공급유닛; 및 진공 챔버 내에서 증착원을 이동시키는 이동유닛을 포함할 수 있다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)