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1. (WO2014077362) SOLVANT DESTINÉ À ÊTRE UTILISÉ DANS LA PRÉPARATION DE LIQUIDE POUR PULVÉRISATION ÉLECTROSTATIQUE, LIQUIDE POUR PULVÉRISATION ÉLECTROSTATIQUE ET PROCÉDÉ DE PULVÉRISATION ÉLECTROSTATIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/077362    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/080907
Date de publication : 22.05.2014 Date de dépôt international : 15.11.2013
CIB :
C09D 201/00 (2006.01), B05D 1/04 (2006.01)
Déposants : NAGASE & CO., LTD. [JP/JP]; 1-1-17, Shinmachi, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka 5508668 (JP).
NAGASE TECHNO-ENGINEERING CO.,LTD. [JP/JP]; 5-1, Nihonbashi-Kobunacho, Chuo-ku, Tokyo 1038355 (JP)
Inventeurs : TAKAHASHI Atsushi; (JP).
WATANABE Koji; (JP).
FUJIMOTO Masatoshi; (JP).
KASAI Kouki; (JP)
Mandataire : HASEGAWA Yoshiki; SOEI PATENT AND LAW FIRM, Marunouchi MY PLAZA (Meiji Yasuda Life Bldg.) 9th fl., 1-1, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-251604 15.11.2012 JP
Titre (EN) SOLVENT FOR USE IN PREPARING LIQUID FOR ELECTROSTATIC SPRAYING, LIQUID FOR ELECTROSTATIC SPRAYING, AND ELECTROSTATIC SPRAYING METHOD
(FR) SOLVANT DESTINÉ À ÊTRE UTILISÉ DANS LA PRÉPARATION DE LIQUIDE POUR PULVÉRISATION ÉLECTROSTATIQUE, LIQUIDE POUR PULVÉRISATION ÉLECTROSTATIQUE ET PROCÉDÉ DE PULVÉRISATION ÉLECTROSTATIQUE
(JA) 静電噴霧用液調製用溶媒、静電噴霧用液、及び、静電噴霧方法
Abrégé : front page image
(EN)This solvent for use in preparing a liquid for electrostatic spraying has a solubility parameter of 9.2 to 13.4. This liquid for electrostatic spraying comprises both a solvent having a solubility parameter of 9.2 to 13.4 and a solute.
(FR)L'invention concerne un solvant destiné à être utilisé pour la préparation d'un liquide pour la pulvérisation électrostatique, qui a un paramètre de solubilité de 9,2 à 13,4. Ce liquide pour la pulvérisation électrostatique comprend un solvant ayant un paramètre de solubilité de 9,2 à 13,4 et un soluté.
(JA) 本発明の静電噴霧用液調製用溶媒は、9.2~13.4の溶解パラメータを有する。本発明の静電噴霧用液は、9.2~13.4の溶解パラメータを有する溶媒と、溶質と、を含む。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)