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1. (WO2014077324) COMPOSITION DE RÉSINE ACIDE POLYGLYCOLIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/077324    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/080804
Date de publication : 22.05.2014 Date de dépôt international : 14.11.2013
CIB :
C08L 67/04 (2006.01), B32B 27/00 (2006.01), C08K 5/20 (2006.01)
Déposants : NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054 (JP)
Inventeurs : ODAKA, Kazutoshi; (JP).
SUWA, Takeshi; (JP)
Mandataire : HANABUSA, Tsuneo; c/o Hanabusa Patent Office, Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-251829 16.11.2012 JP
Titre (EN) POLYGLYCOLIC ACID RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE ACIDE POLYGLYCOLIQUE
(JA) ポリグリコール酸樹脂組成物
Abrégé : front page image
(EN)[Problem] To provide a polyglycolic acid resin composition into which a crystal nucleator that is suitable for promoting crystallization of a polyglycolic acid resin is added, and which has a higher crystallization rate in comparison to polyglycolic acid resins, while achieving higher moldability and improved heat resistance. [Solution] A polyglycolic acid resin composition which contains a polyglycolic acid resin and a crystal nucleator that is composed of a carboxylic acid derivative represented by B1-L1-A-L2-B2. (In the formula, A represents an optionally substituted alkylene group having 1-6 carbon atoms or an optionally substituted divalent aromatic group having 6-10 carbon atoms; each of B1 and B2 independently represents an optionally substituted cycloalkyl group having 3-6 carbon atoms or an optionally substituted aromatic group having 6-10 carbon atoms; and each of L1 and L2 independently represents -C(=O)NR1- (wherein R1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1-6 carbon atoms) or -C(=O)O-.)
(FR)Le problème décrit par la présente invention est de pourvoir à une composition de résine acide polyglycolique à laquelle un agent de nucléation de cristaux qui est utilisé pour favoriser la cristallisation d'une résine acide polyglycolique est ajouté, et qui a une vitesse de cristallisation plus élevée comparée à celle des résines acide polyglycolique, tout en manifestant une aptitude au moulage plus élevée et une résistance thermique améliorée. La solution selon l'invention porte sur une résine acide polyglycolique qui contient une résine acide polyglycolique et un agent de nucléation de cristaux qui est composé d'un dérivé d'acide polyglycolique représenté par B1-L1-A-L2-B2. (Dans la formule, A représente un groupe alkylène éventuellement substitué ayant de 1 à 6 atomes de carbone ou un groupe aromatique divalent éventuellement substitué ayant de 6 à 10 atomes de carbone ; chacun des B1 et B2 représente indépendamment un groupe cycloalkyle éventuellement substitué ayant de 3 à 6 atomes de carbone ou un groupe aromatique éventuellement substitué ayant de 6 à 10 atomes de carbone ; et chacun des L1 et L2 représente indépendamment -C(=O)NR1- (où R1 représente un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle ayant de 1 à 6 atomes de carbone) ou -C(=O)O-).
(JA)【課題】 ポリグリコール酸樹脂の結晶化促進に好適な結晶核剤を添加した、ポリグリコール酸樹脂に比べて結晶化速度が速く、より高い成型加工性及び耐熱性の向上が可能なポリグリコール酸樹脂組成物を提供すること。 【解決手段】 ポリグリコール酸樹脂、及びB1-L1-A-L2-B2で表されるカルボン酸誘導体からなる結晶核剤を含む、ポリグリコール酸樹脂組成物。 {式中、Aは置換基を有していてもよい炭素原子数1乃至6のアルキレン基又は置換基を有していてもよい炭素原子数6乃至10の二価の芳香族基を表し、B1及びB2はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素原子数3乃至6のシクロアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素原子数6乃至10の芳香族基を表し、L1及びL2はそれぞれ独立して、-C(=O)NR1-(式中、R1は水素原子又は炭素原子数1乃至6のアルキル基を表す。)又は-C(=O)O-を表す。}
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)