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1. (WO2014077023) DISPOSITIF DE PURIFICATION DES GAZ D'ÉCHAPPEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/077023    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/074798
Date de publication : 22.05.2014 Date de dépôt international : 13.09.2013
CIB :
B01D 53/94 (2006.01), F01N 3/08 (2006.01), F01N 3/24 (2006.01)
Déposants : FUTABA INDUSTRIAL CO., LTD. [JP/JP]; 1, Aza-ochaya, Hashime-cho, Okazaki-shi, Aichi 4448558 (JP)
Inventeurs : NAGATA, Yoshinobu; (JP).
UMENO, Yasufumi; (JP)
Mandataire : NAGOYA INTERNATIONAL PATENT FIRM; Meishin Bldg., 20-19, Nishiki 1-chome, Naka-ku, Nagoya-shi, Aichi 4600003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-252472 16.11.2012 JP
Titre (EN) EXHAUST GAS PURIFICATION DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE PURIFICATION DES GAZ D'ÉCHAPPEMENT
(JA) 排ガス浄化装置
Abrégé : front page image
(EN)An exhaust gas purification device is provided with: a catalyst that is provided downstream from an enlarged diameter flow path in an exhaust gas flow path; a diffusing member that is provided upstream from the enlarged diameter flow path in the exhaust gas flow path and that causes exhaust gas that has flowed in from upstream to flow out so that said exhaust gas is diffused toward the enlarged diameter flow path; a supply device that supplies a reducing agent upstream from the diffusing member in the exhaust gas flow path; and a guiding member that is provided upstream from the diffusing member either at a flow mixing position in the exhaust gas flow path where the reducing agent and the exhaust gas mix or at a position downstream from the flow mixing position, and that splits the flow of the reducing agent that has flowed in from upstream into a plurality of flows and guides said flows toward the diffusing member.
(FR)Le dispositif de purification des gaz d'échappement ci-décrit comprend : un catalyseur situé en aval d'un circuit d'écoulement de diamètre plus large dans un circuit d'écoulement des gaz d'échappement; un élément de diffusion situé en amont du circuit d'écoulement de diamètre plus large dudit circuit d'écoulement des gaz d'échappement et qui a pour effet de faire s'évacuer les gaz d'échappement entrés en amont de façon que lesdits gaz d'échappement soient diffusés en direction du circuit d'écoulement de diamètre plus large; un dispositif d'alimentation qui introduit un agent de réduction en amont de l'élément de diffusion dans le circuit d'écoulement des gaz d'échappement; et un élément de guidage situé en amont de l'élément de diffusion soit à une position de mélange dans le circuit d'écoulement des gaz d'échappement où l'agent de réduction et les gaz d'échappement se mélangent, soit à une position en aval de la position de mélange, et qui divise l'écoulement de l'agent de réduction entré en amont en une pluralité d'écoulements et guide lesdits écoulements en direction de l'élément de diffusion.
(JA)排ガス浄化装置は、排ガス流路における拡径流路の下流側に設けられた触媒と、前記排ガス流路における前記拡径流路の上流側に設けられ、上流側から流入した排ガスを前記拡径流路へ拡散するように流出させる拡散部材と、前記排ガス流路における前記拡散部材よりも上流側へ還元剤を供給する供給装置と、前記排ガス流路における前記還元剤が排ガスと合流する合流位置又は前記合流位置よりも下流側であって、前記拡散部材よりも上流側に設けられ、上流側から流入した前記還元剤の流れを複数に分岐して前記拡散部材へ誘導する誘導部材と、を備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)