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1. (WO2014076922) PROCÉDÉ DE NANOIMPRESSION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT À MOTIFS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/076922    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/006612
Date de publication : 22.05.2014 Date de dépôt international : 11.11.2013
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), B29C 59/02 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : WAKAMATSU, Satoshi; (JP).
YAKUSHIJI, Takashi; (JP).
NAKAMURA, Kazuharu; (JP)
Mandataire : YANAGIDA, Masashi; YANAGIDA & Associates, 7F, Shin-Yokohama KS Bldg., 3-18-3, Shin-Yokohama, Kohoku-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2220033 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-250929 15.11.2012 JP
Titre (EN) NANOIMPRINT METHOD, AND MANUFACTURING METHOD FOR PATTERNED SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ DE NANOIMPRESSION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT À MOTIFS
(JA) ナノインプリント方法およびそれを用いたパターン化基板の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)[Problem] To improve the issues of decreased efficiency and the volatilization of curable resin in nanoimprinting, while enabling a reduction in the occurrence of unfilled defects. [Solution] A nanoimprinting method using a mold (1) having a microrelief pattern on the surface thereof, wherein: the mold (1) and a substrate (2) are arranged so that a resist (3) coated on the substrate (2) faces the relief pattern; the size of the part of the surface of a space region above the pattern region sandwiched between the mold (1) and the substrate (2) that comes into contact with the atmosphere is smaller than the size of the part of the resist (3) that is present over the pattern region; and after the air pressure of the atmosphere has been reduced to below 10kPa when the mold (1) is not in contact with the resist (3), the mold (1) is pressed onto the substrate (2).
(FR)Cette invention vise à améliorer les problèmes de réduction de l'efficacité et de volatilisation de la résine thermodurcissable lors de la nanoimpression, tout en réduisant l'apparition de défauts d'uniformité. Plus précisément, l'invention concerne un procédé de nanoimpression qui met en œuvre un moule (1) présentant un motif à microreliefs sur sa surface. Ledit moule (1) et un substrat (2) sont agencés de telle façon qu'une couche de résistance (3) déposée sur le substrat (2) est orientée vers le motif en relief. La taille de la partie de la surface d'un espace disposé au-dessus de la région à motif prise en sandwich entre le moule (1) et le substrat (2) qui entre en contact avec l'atmosphère est inférieure à la taille de la partie de la couche de résistance (3) disposée au-dessus de la région à motif. Après réduction de la pression de l'air ambiant en dessous de 10 kPa quand le moule (1) n'est pas en contact avec la couche de résistance (3), ledit moule (1) est poussé contre le substrat (2).
(JA)【課題】ナノインプリントにおいて、硬化性樹脂の揮発および効率低下の問題を改善しながら未充填欠陥の発生を低減することを可能とする。 【解決手段】微細な凹凸パターンを表面に有するモールド(1)を用いたナノインプリント方法において、基板(2)上に塗布されたレジスト(3)に凹凸パターンが対向するようにモールド(1)および基板(2)を配置し、モールド(1)と基板(2)とで挟まれたパターン領域上の空間領域の表面のうち雰囲気と接する部分の面積が、基板(2)上に塗布されたレジスト(3)のうちパターン領域上に存在する部分の表面積よりも小さく、かつモールド(1)がレジスト(3)に接触しない状態で、雰囲気の気圧を10kPa未満に減圧した後、モールド(1)を基板(2)に押し付ける。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)