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1. (WO2014076634) PRÉCURSEURS POLYMÈRES POUR LA PRODUCTION DE NANORUBANS DE GRAPHÈNE ET MONOMÈRES OLIGOPHÉNYLÈNE APPROPRIÉS POUR LEUR PRÉPARATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/076634    N° de la demande internationale :    PCT/IB2013/060075
Date de publication : 22.05.2014 Date de dépôt international : 12.11.2013
CIB :
C07C 15/14 (2006.01), C07C 15/12 (2006.01), C07C 15/20 (2006.01), C07C 15/30 (2006.01), C07C 25/18 (2006.01), C07C 309/66 (2006.01), C07C 245/20 (2006.01), C01B 31/04 (2006.01), C08G 61/10 (2006.01)
Déposants : BASF SE [DE/DE]; 67056 Ludwigshafen (DE).
MAX-PLANCK-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER WISSENSCHAFTEN E.V. [DE/DE]; Hofgartenstraße 8 80539 München (DE).
BASF (CHINA) COMPANY LIMITED [CN/CN]; 300 Jiangxinsha Road Shanghai, 200137 (CN) (MN only)
Inventeurs : MÜLLEN, Klaus; (DE).
FENG, Xinliang; (DE).
CAI, Jinming; (CH).
RUFFIEUX, Pascal; (CH).
FASEL, Roman; (CH).
NARITA, Akimitsu; (DE)
Mandataire : SCHUCK, Alexander; Isenbruck Bösl Hörschler LLP Patentanwälte EASTSITE ONE Seckenheimer Landstraße 4 68163 Mannheim (DE)
Données relatives à la priorité :
61/727157 16.11.2012 US
Titre (EN) POLYMERIC PRECURSORS FOR PRODUCING GRAPHENE NANORIBBONS AND SUITABLE OLIGOPHENYLENE MONOMERS FOR PREPARING THEM
(FR) PRÉCURSEURS POLYMÈRES POUR LA PRODUCTION DE NANORUBANS DE GRAPHÈNE ET MONOMÈRES OLIGOPHÉNYLÈNE APPROPRIÉS POUR LEUR PRÉPARATION
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to oligophenylene monomers of general formula I, wherein R1 is H, halogene, -OH, -NH2, -CN,-NO2, or a linear or branched, saturated or un-saturated C1 -C40 hydrocarbon residue, which can be substituted 1-to 5-fold with halogene (F, Cl, Br, I), -OH, -NH2, -CN and/or -NO2, and wherein one or more CH2 -groups can be replaced by -O-, -S-, -C(O)O-, -O-C(O)-, -C(O)-, -NH-or – NR3 -, wherein R3 is an optionally substituted C1 -C40 hydrocarbon residue, or an optionally substituted aryl, alkylaryl, alkoxyaryl, alkanoyl or aroyl residue; R2a and R2b are H, or optionally one or more of the pairs of adjacent R2a /R2b is joined to form a single bond in a six-membered carbocycle; m is an integer of from 0 to 3; n is 0 or 1; and X is halogene or trifluoromethylsulfonate, and Y is H; or X is H, and Y is halogene or trifluoromethylsulfonate. The invention further relates to polymeric precursors as well as methods for preparing graphene nanoribbons from the oligophenylene monomers and the polymeric precur- sors.
(FR)L'invention porte sur des monomères oligophénylène représenté par la formule générale I, dans laquelle R1 représente H, un atome d'halogène, -OH, -NH2, -CN, -NO2 ou un résidu d'hydrocarbure en C1-C40 linéaire ou ramifié, saturé ou insaturé, qui peut être substitué 1 à 5 fois par des substituants atomes d'halogène (F, Cl, Br, I), -OH, -NH2, -CN et/ou -NO2, un ou plusieurs groupes CH2 pouvant être remplacés par -O-, -S-, -C(O)O-, -O-C(O)-, -C(O)-, -NH- ou -NR3-, R3 représentant un résidu d'hydrocarbure en C1-C40 éventuellement substitué ou un résidu aryle, alkylaryle, alcoxyaryle, alcanoyle ou aroyle éventuellement substitué ; R2a et R2b représentent chacun H ou éventuellement une ou plusieurs des paires de R2a/R2b adjacentes sont reliées pour former une liaison simple dans un carbocycle à six chaînons ; m représente un nombre entier de 0 à 3 ; n vaut 0 ou 1 ; et X représente un atome d'halogène ou le groupe trifluorométhylsulfonate et Y représente H ; ou X représente H et Y représente un atome d'halogène ou le groupe trifluorométhylsulfonate. L'invention porte en outre sur des précurseurs polymères ainsi que sur des procédés pour la préparation de nanorubans de graphène à partir des monomères oligophénylène et des précurseurs polymères.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)