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1. (WO2014076428) PROCÉDÉ DE RÉALISATION D'UN MOTIF EN RELIEF DANS UNE CARTE PLASTIQUE MINCE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/076428    N° de la demande internationale :    PCT/FR2013/052746
Date de publication : 22.05.2014 Date de dépôt international : 14.11.2013
CIB :
B41M 5/26 (2006.01), B41M 3/14 (2006.01)
Déposants : OBERTHUR TECHNOLOGIES [FR/FR]; 420 rue d'Estienne d'Orves F-92700 Colombes (FR)
Inventeurs : MOREL, Yvonnic; (FR).
KERHOMEN, Julie; (FR)
Mandataire : SANTARELLI; 49, avenue des Champs-Elysées 75008 Paris (FR)
Données relatives à la priorité :
1260901 16.11.2012 FR
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING A PATTERN IN RELIEF IN A THIN PLASTIC CARD
(FR) PROCÉDÉ DE RÉALISATION D'UN MOTIF EN RELIEF DANS UNE CARTE PLASTIQUE MINCE
Abrégé : front page image
(EN)A method for producing a pattern (6) in relief (10) in a thin plastic card (1), comprising the following steps: - producing a stack of layers comprising, in the following order: - a transparent layer (2), - a special layer (3), - a black surface (4), - a substrate layer (5), - drawing said pattern (6) by means of a laser (7) through the transparent layer (2).
(FR)Procédé de réalisation d'un motif (6) en relief (10) dans une carte plastique mince (1), comprenant les étapes suivantes : - réalisation d'une superposition de couches comprenant dans l'ordre : - une couche transparente (2), - une couche spéciale (3), - une surface noire (4), - une couche substrat (5), - dessin au moyen d'un laser (7) du dit motif (6) au travers de la couche transparente (2).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)