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1. (WO2014076276) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE COUCHE SUR UNE ZONE DE SURFACE D'UN COMPOSANT ÉLECTRONIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/076276    N° de la demande internationale :    PCT/EP2013/074068
Date de publication : 22.05.2014 Date de dépôt international : 18.11.2013
CIB :
H01L 51/00 (2006.01), C23C 16/455 (2006.01)
Déposants : OSRAM OLED GMBH [DE/DE]; Wernerwerkstr. 2 93049 Regensburg (DE)
Inventeurs : BAISL, Richard; (DE).
POPP, Michael; (DE)
Mandataire : EPPING HERMANN FISCHER PATENTANWALTSGESELLSCHAFT MBH; Schlossschmidstr. 5 80639 Munich (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2012 221 080.6 19.11.2012 DE
Titre (DE) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER SCHICHT AUF EINEM OBERFLÄCHENBEREICH EINES ELEKTRONISCHEN BAUELEMENTS
(EN) METHOD FOR PRODUCING A LAYER ON A SURFACE AREA OF AN ELECTRONIC COMPONENT
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE COUCHE SUR UNE ZONE DE SURFACE D'UN COMPOSANT ÉLECTRONIQUE
Abrégé : front page image
(DE)Ein Verfahren zur Herstellung zumindest einer Schicht (1) auf einem Oberflächenbereich (2) eines optoelektronischen Bauelements (100, 101, 102, 103, 104, 105), das eine funktionelle Schichtenfolge (41) mit einemaktiven Bereich aufweist, der geeignet ist, im Betrieb des optoelektronischen Bauelements Licht zu erzeugen oder zu detektieren, weist die Schritte auf: Bereitstellen des Oberflächenbereichs (2) in einer Beschichtungskammer(10), Aufbringen der zumindest einen Schicht (1) mittels eines Lichtblitz unterstützten Atomlagenabscheideverfahrens, bei dem der Oberflächenbereich (2) zumindest einem gasförmigen ersten Ausgangsmaterial (21) oder zumindest einem gasförmigen ersten Ausgangsmaterial (21) und anschließend einem gasförmigen zweiten Ausgangsmaterial (22) für die zumindest eine Schicht (1) ausgesetzt wird und auf dem Oberflächenbereich adsorbierte Moleküle des ersten und/oder zweiten Ausgangsmaterials (21, 22) mit zumindest einem Lichtblitz bestrahlt werden, wodurch die auf dem Oberflächenbereich adsorbierten Moleküle aufgespalten werden.
(EN)The invention relates to a method for producing at least one layer (1) on a surface area (2) of an optoelectronic component (100, 101, 102, 103, 104, 105) comprising a functional layer sequence (41) with an active area which is suitable to produce or to detect the light when the optoelectronic component is in operation. Said method consists of the following steps: introducing the surface area (2) into a coating chamber (10); depositing the at least one layer (1) according to a flash-light supported atomic layer deposition method in which the surface area (2) is exposed to at least one gaseous first initial material (21) or at least one gaseous first initial material (21) and subsequently a gaseous second initial material (22) to form the at least one layer (1), and molecules of the first and/or second initial material (21, 22), which are absorbed on the surface area, are exposed to at least one flash of light, the molecules absorbed on the surface area being split.
(FR)Procédé de fabrication d'au moins une couche (1) sur une zone de surface (2) d'un composant optoélectronique (100, 101, 102, 103, 104, 105) comportant une succession fonctionnelle de couches (41) pourvue d'une zone active appropriée pour produire ou détecter de la lumière lors du fonctionnement du composant optoélectronique, qui comporte les étapes suivantes : introduction de la zone de surface (2) dans une chambre d'application de revêtement (10), dépôt de la couche (1) au moyen d'un procédé de dépôt de couches atomiques assisté par un éclair de lumière, selon lequel la zone de surface (2) est exposée au moins à une première matière de départ gazeuse (21) ou au moins à une première matière de départ gazeuse (21) et ensuite à une seconde matière de départ gazeuse (22) pour former la couche (1), et des molécules de la première et/ou de la seconde matière de départ (21, 22) adsorbées sur la zone de surface sont exposées à au moins un éclair de lumière, les molécules adsorbées sur la zone de surface étant ainsi dissociées.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)