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1. (WO2014076078) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ POUR LE TRAITEMENT D'UN MATÉRIAU PLAT À TRAITER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/076078    N° de la demande internationale :    PCT/EP2013/073617
Date de publication : 22.05.2014 Date de dépôt international : 12.11.2013
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    08.01.2015    
CIB :
C25D 7/06 (2006.01), C25D 17/00 (2006.01), C23C 18/16 (2006.01)
Déposants : ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH [DE/DE]; Erasmusstraße 20 10553 Berlin (DE)
Inventeurs : WIENER, Ferdinand; (DE).
THOMAS, Christian; (DE).
LORENZ, Olaf; (DE)
Mandataire : BRESSEL, Burkhard; Patentanwälte Bressel und Partner Potsdamer Platz 10 10785 Berlin (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2012 221 012.1 16.11.2012 DE
Titre (EN) DEVICE AND METHOD FOR THE TREATMENT OF FLAT MATERIAL TO BE TREATED
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ POUR LE TRAITEMENT D'UN MATÉRIAU PLAT À TRAITER
Abrégé : front page image
(EN)The device (1) according to the invention is suggested for gentle treatment of a flat material (B) to be treated with a treatment liquid (F). The device (1) has the following components: at least one treatment chamber (20), in which the treatment liquid (F) can be accumulated up to a bath level (M), at least one supply device (7) for the supply of the treatment liquid (F) into the at least one treatment chamber (20), at least one transport device (30), with which the material (B) to be treated can be transported in the horizontal position in a transport plane (E) below the bath level (M) through the at least one treatment chamber (20), at least one reception area (4) for the treatment liquid (F), and at least one discharge device (40) with, respectively, at least one discharge opening (41) for the treatment liquid (F) for conveying it from the at least one treatment chamber (20) with a respective discharge rate into the at least one reception area (4). The at least one discharge device (40) respectively has at least one regulating system (43), with which the discharge rate of the treatment liquid (F) is adjustable through the at least one discharge opening (41).
(FR)L'invention se rapporte à un dispositif (1) destiné au traitement léger d'un matériau plat (B) à traiter avec un liquide de traitement (F). le dispositif (1) comporte les composants suivants : au moins une chambre de traitement (20), dans laquelle le liquide de traitement (F) peut s'accumuler jusqu'à un niveau de bain (M), au moins un dispositif d'alimentation (7) destiné à l'acheminement du liquide de traitement (F) dans la ou les chambres de traitement (20), au moins un dispositif de transport (30), grâce auquel le matériau (B) à traiter peut être transporté dans la position horizontale dans un plan de transport (E) sous le niveau de bain (M) dans la ou les chambres de traitement (20), au moins une zone de réception (4) pour le liquide de traitement (F) et au moins un dispositif de sortie (40) comportant, respectivement, au moins une ouverture de sortie (41) pour le liquide de traitement (F) pour le transporter depuis la ou les chambres de traitement (20) à une vitesse de sortie respective dans la ou les zones de réception (4). Le ou les dispositifs de sortie (40) possèdent respectivement au moins un système de régulation (43), grâce auquel la vitesse de sortie du liquide de traitement (F) peut être réglée par le biais de la ou des ouvertures de sortie (41).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)