WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2014075350) DISPOSITIF DE MESURE DE LARGEUR DE TRAIT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/075350    N° de la demande internationale :    PCT/CN2012/085362
Date de publication : 22.05.2014 Date de dépôt international : 27.11.2012
CIB :
G01B 11/02 (2006.01)
Déposants : SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; NO.9-2, Tangming Rd., Guangming New District Shenzhen, Guangdong 518132 (CN)
Inventeurs : LIN, Yung-Yu; (CN)
Mandataire : SHENZHEN RONDA PATENT AND TRADEMARK LAW OFFICE; Unit 4G, Golden Century Building, Southeast Corner of Shennan Middle Road and Guangzhou-Shenzhen Expwy, Futian District Shenzhen, Guangdong 518040 (CN)
Données relatives à la priorité :
201210459757.8 15.11.2012 CN
Titre (EN) LINEWIDTH MEASUREMENT DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE MESURE DE LARGEUR DE TRAIT
(ZH) 一种线宽量测装置
Abrégé : front page image
(EN)A linewidth measurement device, which is used for acquiring an image of a pattern to be measured (10). The device at least comprises: a first back light source (20) and a second back light source (30), the first back light source (20) and the second back light source (30) being mounted below the downside of the pattern to be measured (10) respectively, and projecting back illumination onto the pattern to be measured (10); and an image acquisition device (40) mounted above the top side of the pattern to be measured (10) and used for acquiring the image of the pattern to be measured (10). On the basis of improving image acquisition accuracy, the linewidth measurement device further reduces the number of light sources used, thus lowering the refurbishment and maintenance costs of the linewidth measurement device.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de mesure de largeur de trait qui est utilisé pour acquérir une image d'un motif à mesurer (10). Le dispositif comprend au moins : une première source de rétroéclairage (20) et une seconde source de rétroéclairage (30), la première source de rétroéclairage (20) et la seconde source de rétroéclairage (30) étant montées en dessous du côté inférieur du motif à mesurer (10), respectivement, et projetant un éclairage arrière sur le motif à mesurer (10) ; et un dispositif d'acquisition d'image (40) monté au-dessus du côté supérieur du motif à mesurer (10) et utilisé pour acquérir l'image du motif à mesurer (10). Sur la base de l'amélioration de la précision de l'acquisition d'une image, le dispositif de mesure de largeur de trait réduit en outre le nombre de sources de lumière utilisées, ce qui permet de diminuer les coûts de remise en état et d'entretien du dispositif de mesure de largeur de trait.
(ZH)一种线宽量测装置,用于撷取待测图案(10)的影像,该装置至少包括:第一背向光源(20)和第二背向光源(30),第一背向光源(20)和第二背向光源(30)分别装设在待测图案(10)底侧的下方,并投射背向照明在待测图案(10)上;取像装置(40),装设在待测图案(10)顶侧的上方,用以撷取待测图案(10)的影像。该线宽量测装置,在提高取像精准性的基础上,进一步减少了使用光源的台数,降低线宽量测装置的改装及维护成本。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)