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1. (WO2014062998) PROCÉDÉS DE DÉPÔT D'UN FILM HOMOGÈNE PAR PULVÉRISATION À PARTIR D'UNE CIBLE NON HOMOGÈNE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/062998    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/065578
Date de publication : 24.04.2014 Date de dépôt international : 18.10.2013
CIB :
C23C 14/00 (2006.01)
Déposants : FIRST SOLAR MALAYSIA SDN. BHD. [MY/MY]; 8, Jalan Hi-Tech 3/3 Zon Industri Fasa 3, Kulim Hi-Tech Park Kulim, Kedah Darul Aman, 09000 (MY) (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IR, IS, IT, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW only).
FELDMAN-PEABODY, Scott Daniel [US/US]; (US) (US only).
GOSSMAN, Robert Dwayne [US/US]; (US) (US only).
PAVOL, Mark Jeffrey [US/US]; (US) (US only)
Inventeurs : FELDMAN-PEABODY, Scott Daniel; (US).
GOSSMAN, Robert Dwayne; (US).
PAVOL, Mark Jeffrey; (US)
Mandataire : MARSHALL, Alan, R.; Dority & Manning, P.A. P.O. Box 1449 Greenville, South Carolina 29602-1449 (US)
Données relatives à la priorité :
13/654,461 18.10.2012 US
Titre (EN) METHODS FOR DEPOSITING A HOMOGENEOUS FILM VIA SPUTTERING FROM AN INHOMOGENEOUS TARGET
(FR) PROCÉDÉS DE DÉPÔT D'UN FILM HOMOGÈNE PAR PULVÉRISATION À PARTIR D'UNE CIBLE NON HOMOGÈNE
Abrégé : front page image
(EN)Methods for forming a thin film layer on a substrate are provided. The method can include: rotating a cylindrical target about a center axis; ejecting atoms from the sputtering surface with a plasma; transporting a substrate across the plasma at a substantially consistent speed; and depositing the atoms ejected from the sputtering surface onto the substrate to form a thin film layer. The cylindrical target generally includes a source material forming a sputtering surface about the cylindrical target, with the source material having a plurality of first areas and a plurality of second areas. Each first area includes a first compound, and each second area includes a second compound, while the first compound is different than the second compound.
(FR)La présente invention porte sur des procédés de formation d'une couche de film mince sur un substrat. Le procédé selon l'invention peut comprendre les étapes consistant : à faire tourner une cible cylindrique autour d'un axe central ; à éjecter des atomes à partir de la surface de pulvérisation au moyen d'un plasma ; à transporter un substrat à travers le plasma à une vitesse sensiblement constante ; et à déposer les atomes éjectés à partir de la surface de pulvérisation sur le substrat en vue de former une couche de film mince. La cible cylindrique comprend d'une manière générale un matériau source formant une surface de pulvérisation autour de la cible cylindrique, le matériau source comportant une pluralité de premières zones et une pluralité de secondes zones. Chacune des premières zones comprend un premier composé et chacune des secondes zones comprend un second composé, le premier composé étant différent du second composé.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)