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1. (WO2014062615) LITHOGRAPHIE À ÉCRITURE DIRECTE POUR LA FABRICATION D'HOLOGRAMMES DE PHASE GÉOMÉTRIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/062615    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/064939
Date de publication : 24.04.2014 Date de dépôt international : 15.10.2013
CIB :
G02B 5/32 (2006.01)
Déposants : NORTH CAROLINA STATE UNIVERSITY [US/US]; Campus Box 8210 Raleigh, North Carolina 27606 (US)
Inventeurs : ESCUTI, Michael, J.; (US).
MISKIEWICZ, Matthew, N .; (US).
KIM, Jihwan; (US)
Mandataire : MYERS BIGEL SIBLEY & SAJOVEC, P.A.; P.O. Box 37428 Raleigh, North Carolina 27627 (US)
Données relatives à la priorité :
61/713,770 15.10.2012 US
Titre (EN) DIRECT WRITE LITHOGRAPHY FOR THE FABRICATION OF GEOMETRIC PHASE HOLOGRAMS
(FR) LITHOGRAPHIE À ÉCRITURE DIRECTE POUR LA FABRICATION D'HOLOGRAMMES DE PHASE GÉOMÉTRIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A direct-write lithography apparatus includes a polarization selector stage configured to vary a polarization orientation angle of light from a light source, a focusing element configured to focus the light from the light source into a spot at a focal plane thereof, and a scanning stage configured to scan the spot in at least two dimensions along a surface of a polarization-sensitive recording medium that is arranged proximate to the focal plane such that neighboring scans substantially overlap. The polarization selector stage and the scanning stage are configured to be operated independently of one another. Related fabrication methods of and optical elements fabricated thereby are also discussed.
(FR)La présente invention porte sur un appareil de lithographie à écriture directe qui comprend un étage de sélecteur de polarisation configuré pour faire varier l'angle d'orientation de polarisation d'une lumière provenant d'une source lumineuse, un élément de focalisation configuré pour focaliser la lumière provenant de la source lumineuse en une tache au niveau d'un plan focal de celle-ci et un étage de balayage configuré pour balayer la tache dans au moins deux dimensions le long d'une surface d'un support d'enregistrement, sensible à une polarisation, qui est agencé à proximité du plan focal de telle sorte que des balayages voisins se chevauchent sensiblement. L'étage de sélecteur de polarisation et l'étage de balayage sont configurés pour être mis en œuvre indépendamment l'un de l'autre. La présente invention porte également sur des procédés de fabrication associés et sur des éléments optiques ainsi fabriqués.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)