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1. (WO2014062222) ARTICLES COMPRENANT UNE COUCHE INTERMÉDIAIRE ET PROCÉDÉS DE FORMATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/062222    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/030659
Date de publication : 24.04.2014 Date de dépôt international : 13.03.2013
CIB :
G11B 5/31 (2006.01)
Déposants : SEAGATE TECHNOLOGY LLC [US/US]; 10200 S. DeAnza Boulevard Cupertino, CA 95014 (US).
PITCHER, Philip, George [GB/US]; (US).
BRAND, John, L. [US/US]; (US).
REJDA, Edwin, F. [US/US]; (US).
FULLER, Richard, M. [US/US]; (US)
Inventeurs : PITCHER, Philip, George; (US).
BRAND, John, L.; (US).
REJDA, Edwin, F.; (US).
FULLER, Richard, M.; (US)
Mandataire : NELSON, Anna, M.; Mueting, Raasch & Gebhardt, P.A. P.O. Box 581336 Minneapolis, MN 55458-1336 (US)
Données relatives à la priorité :
61/728,306 20.11.2012 US
61/715,519 18.10.2012 US
Titre (EN) ARTICLES INCLUDING INTERMEDIATE LAYER AND METHODS OF FORMING
(FR) ARTICLES COMPRENANT UNE COUCHE INTERMÉDIAIRE ET PROCÉDÉS DE FORMATION
Abrégé : front page image
(EN)Articles that include a magnetic structure; an intermediate layer, the intermediate layer positioned on the magnetic structure, the intermediate layer having a thickness from about 3 Å to about 50 Å, the intermediate layer including a bottom interface layer, the bottom interface layer positioned adjacent the magnetic structure, the bottom interface layer including atoms of a metal bonded to atoms, compounds, or both of the magnetic structure; an interlayer, the interlayer positioned on the bottom interface layer, the interlayer including oxides of the metal; and a top interface layer, the top interface layer positioned adjacent the interlayer, the top interface layer including atoms of the metal, oxides of the metal, or some combination thereof bonded to atoms or compounds of the adjacent overcoat layer; and an overcoat layer, the overcoat layer positioned on the top interface layer of the intermediate layer.
(FR)L'invention concerne des articles qui comprennent une structure magnétique ; une couche intermédiaire, la couche intermédiaire étant placée sur la structure magnétique, la couche intermédiaire, ayant une épaisseur d'environ 3 Å à environ 50 Å, la couche intermédiaire comprenant une couche d'interface de fond, la couche d'interface de fond placée à proximité de la structure magnétique, la couche d'interface de fond ayant des atomes d'un métal lié à des atomes, des composés, ou les deux de la structure magnétique ; une couche intermédiaire, la couche intermédiaire positionnée sur la couche d'interface de fond, la couche intermédiaire comprenant des oxydes de métal ; et une couche d'interface de dessus, la couche d'interface de dessus placée à côté de la couche intermédiaire, la couche d'interface de dessus comprenant des atomes du métal, des oxydes de métal, ou une combinaison des deux liée aux atomes ou aux composés de la couche de finition adjacente ; et une couche de finition, la couche de finition étant placée sur la couche d'interface de dessus de la couche intermédiaire.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)