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1. (WO2014062135) EMPILEMENT DE BARRIÈRES D'ENCAPSULATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/062135    N° de la demande internationale :    PCT/SG2013/000448
Date de publication : 24.04.2014 Date de dépôt international : 18.10.2013
CIB :
B32B 5/16 (2006.01), B32B 27/04 (2006.01), B32B 19/02 (2006.01), H01L 23/29 (2006.01), H01L 51/52 (2006.01)
Déposants : TERA-BARRIER FILMS PTE LTD [SG/SG]; 3, Research Link Singapore 117602 (SG)
Inventeurs : RAMADAS, Senthil Kumar; (SG).
SHANMUGAVEL, Saravan; (SG)
Mandataire : MCLAUGHLIN, Michael, Gerard; McLaughlin IP Pte Ltd 24A Mosque Street Singapore 059504 (SG)
Données relatives à la priorité :
61/715,420 18.10.2012 US
Titre (EN) ENCAPSULATION BARRIER STACK
(FR) EMPILEMENT DE BARRIÈRES D'ENCAPSULATION
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is an encapsulation barrier stack, capable of encapsulating a moisture and/or oxygen sensitive article and comprising a film layer with at least one layer, wherein the film layer comprises: -one or more nanoparticle sealing layer(s) arranged to be in contact with surface of the at least one substrate, wherein the substrate is not a barrier layer, wherein the one or more nanoparticle sealing layer(s) comprise(s) a plurality of encapsulated nanoparticles, the nanoparticles being reactive in that they are capable of interacting with moisture and/or oxygen to retard the permeation of moisture and/or oxygen.
(FR)L'invention concerne un empilement de barrières d'encapsulation, apte à encapsuler un article sensible à l'humidité et/ou à l'oxygène et comprenant une couche de film ayant au moins une couche, la couche de film comprenant : une ou plusieurs couches de scellage de nanoparticules disposées pour être en contact avec la surface du au moins un substrat, le substrat n'étant pas une couche barrière, l'une ou plusieurs couches de scellage de nanoparticules comprenant une pluralité de nanoparticules encapsulées, les nanoparticules étant réactives en ce qu'elles sont aptes à interagir avec l'humidité et/ou l'oxygène pour retarder la perméation de l'humidité et/ou de l'oxygène.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)