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1. (WO2014061959) PROCÉDÉ DE COMMANDE DE CHARGE DE SURFACE DE NANOPARTICULES PAR INTRODUCTION SÉQUENTIELLE DE LIGANDS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/061959    N° de la demande internationale :    PCT/KR2013/009193
Date de publication : 24.04.2014 Date de dépôt international : 15.10.2013
CIB :
B82B 3/00 (2006.01), B82B 1/00 (2006.01), B22F 1/02 (2006.01), B82Y 40/00 (2011.01)
Déposants : DONGGUK UNIVERSITY INDUSTRY-ACADEMIC COOPERATION FOUNDATION [KR/KR]; 26, Pil-dong 3-ga Jung-gu Seoul 100-715 (KR).
KOREA RESEARCH INSTITUTE OF STANDARDS AND SCIENCE [KR/KR]; 1, Doryoung-dong Yuseong-gu Daejeon 305-600 (KR)
Inventeurs : KWON, Young Eun; (KR).
SONG, Nam Woong; (KR).
JUNG, Deok Ho; (KR)
Mandataire : KIM, Soon Woong; 601 Ace Techno Tower 5Cha 197-22, Guro-dong, Guro-gu Seoul 152-766 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2012-0115009 16.10.2012 KR
Titre (EN) METHOD FOR CONTROLLING SURFACE CHARGE OF NANOPARTICLES THROUGH SEQUENTIAL INTRODUCTION OF LIGANDS
(FR) PROCÉDÉ DE COMMANDE DE CHARGE DE SURFACE DE NANOPARTICULES PAR INTRODUCTION SÉQUENTIELLE DE LIGANDS
(KO) 순차적인 리간드 도입을 통한 나노입자의 표면 전하 조절방법
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a method for controlling the surface charge of nanoparticles through the sequential introduction of ligands. According to the method of the present invention for controlling the surface charge of nanoparticles through the sequential introduction of ligands, an agglomeration generated during conventional controlling of the surface charge of nanoparticles through the introduction of a single ligand may be significantly settled, and nanoparticles that may maintain monodispersibility and stability in a neutral solution for a long time may be provided. In addition, the stability of gold nanoparticles may be maintained after a certain time from the introduction of a first ligand, and a second ligand may be stably introduced after an interval of time.
(FR)La présente invention concerne un procédé de commande de la charge de surface de nanoparticules par l'introduction séquentielle de ligands. Selon le procédé de la présente invention pour commander la charge de surface de nanoparticules par l'introduction séquentielle de ligands, une agglomération générée durant une commande classique de la charge de surface de nanoparticules par l'introduction d'un ligand unique peut être résolue de manière significative, et des nanoparticules qui peuvent maintenir une monodispersibilité et une stabilité dans une solution neutre pour une longue durée peuvent être fournies. De plus, la stabilité de nanoparticules d'or peut être maintenue après une certaine durée à partir de l'introduction d'un premier ligand, et un second ligand peut être introduit de manière stable après un intervalle de temps.
(KO)본 발명은 순차적인 리간드 도입을 통한 나노입자의 표면 전하 조절방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 순차적인 리간드 도입을 통한 나노입자의 표면 전하 조절방법은, 기존의 단일 리간드 도입을 통한 나노입자 표면 전하 조절시에 응집이 일어나는 문제를 획기적으로 해결하였으며, 나노입자의 단분산성을 유지할 수 있고, 중성 용액 하에서도 장기간 안정도를 유지할 수 있는 나노입자를 제공한다. 또한 1차 리간드 도입 후 일정 시간이 지난 뒤에도 금 나노입자의 안정도가 유지되어 시간적 간격을 두고 안정적으로 2차 리간드를 도입할 수 있는 효과가 있다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)