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1. (WO2014061915) PROCÉDÉ PERMETTANT DE FORMER UN NANOFIL MÉTALLIQUE OU UN NANORÉSEAU MÉTALLIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/061915    N° de la demande internationale :    PCT/KR2013/008026
Date de publication : 24.04.2014 Date de dépôt international : 05.09.2013
CIB :
B82B 3/00 (2006.01), B22F 9/18 (2006.01), B82Y 40/00 (2011.01)
Déposants : LG CHEM, LTD. [KR/KR]; 128, Yeoui-daero, Yeongdeungpo-gu Seoul 150-721 (KR).
IUCF-HYU (INDUSTRY-UNIVERSITY COOPERATION FOUNDATION HANYANG UNIVERSITY) [KR/KR]; 17 Haengdang-dong, Seongdong-gu Seoul 133-791 (KR)
Inventeurs : HAN, Yang-Kyoo; (KR).
LEE, Je-Gwon; (KR).
LEE, Hyun-Jin; (KR).
KIM, No-Ma; (KR).
YOON, Sung-Soo; (KR).
SHIN, Eun-Ji; (KR)
Mandataire : YOU ME PATENT AND LAW FIRM; Seolim Bldg., 649-10 Yoksam-dong Kangnam-ku Seoul 135-080 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2012-0116608 19.10.2012 KR
Titre (EN) METHOD FOR FORMING METAL NANOWIRE OR METAL NANOMESH
(FR) PROCÉDÉ PERMETTANT DE FORMER UN NANOFIL MÉTALLIQUE OU UN NANORÉSEAU MÉTALLIQUE
(KO) 금속 나노와이어 또는 금속 나노메쉬의 형성 방법
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a method for forming a metal nanowire or a metal nanomesh. More specifically, the present invention relates to a method for forming a metal nanowire or a metal nanomesh, capable of forming various metal nanowires or metal nanomeshes into a desired shape through a more simplified method. The method for forming a metal nanowire or a metal nanomesh comprises the steps of: forming, on a substrate, a thin film of a block copolymer comprising a predetermined hard segment, and a soft segment comprising one or more types of polymer repeating units selected from the group consisting of poly(meth)acrylate-based, polyalkylene oxide-based, polyvinyl pyridine-based, polystyrene-based, polydiene-based and polylactone-based repeating units; aligning the hard segment and the soft segment into a lamellar or cylindrical shape in the thin film of a block copolymer; selectively removing the soft segment; adsorbing a metal precursor on the hard segment; and removing the hard segment.
(FR)La présente invention se rapporte à un procédé permettant de former un nanofil métallique ou un nanoréseau métallique. De façon plus précise, la présente invention se rapporte à un procédé permettant de former un nanofil métallique ou un nanoréseau métallique, ledit procédé pouvant former divers nanofils métalliques ou divers nanoréseaux métalliques selon une forme souhaitée au moyen d'un procédé plus simplifié. Le procédé permettant de former un nanofil métallique ou un nanoréseau métallique comprend les étapes consistant à : former, sur un substrat, un mince film d'un copolymère à blocs qui comprend un segment dur prédéterminé, et un segment mou qui comprend un ou plusieurs types d'unités de répétition de polymère sélectionnées dans le groupe constitué par les unités de répétition à base de poly(méth)acrylate, à base d'oxyde de polyalkylène, à base de polyvinylpyridine, à base de polystyrène, à base de polydiène et à base de polylactone ; aligner le segment dur et le segment mou selon une forme lamellaire ou cylindrique dans le mince film d'un copolymère à blocs ; enlever sélectivement le segment mou ; et adsorber un précurseur de métal sur le segment dur ; et enlever le segment dur.
(KO)본 발명은 금속 나노와이어 또는 금속 나노메쉬의 형성 방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 보다 단순화된 방법으로 다양한 금속 나노와이어 또는 금속 나노메쉬를 원하는 형태로 형성할 수 있는 금속 나노와이어 또는 금속 나노메쉬의 형성 방법에 관한 것이다. 상기 금속 나노와이어 또는 금속 나노메쉬의 형성 방법은 기재 상에, 소정의 하드세그먼트와, 폴리(메타)아크릴레이트계, 폴리알킬렌 옥사이드계, 폴리비닐피리딘계, 폴리스티렌계, 폴리디엔계 및 폴리락톤계로 이루어진 군에서 선택된 고분자 반복단위를 1종 이상 포함한 소프트세그먼트를 포함하는 블록공중합체의 박막을 형성하는 단계; 블록공중합체의 박막에서, 상기 하드세그먼트 및 소프트세그먼트를 라멜라 형태 또는 실린더 형태로 배향시키는 단계; 소프트세그먼트를 선택적으로 제거하는 단계; 하드세그먼트 상에 금속 전구체를 흡착시키는 단계; 및 하드세그먼트를 제거하는 단계를 포함한다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)