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1. (WO2014061666) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN MATÉRIAU DE TYPE CARBONE POREUX
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/061666    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/077985
Date de publication : 24.04.2014 Date de dépôt international : 15.10.2013
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    13.08.2014    
CIB :
C01B 31/02 (2006.01), C01B 31/08 (2006.01), C01B 7/01 (2006.01)
Déposants : SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 5-33, Kitahama 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410041 (JP)
Inventeurs : ISHIKAWA Shinji; (JP).
KUWAHARA Kazuya; (JP)
Mandataire : HASEGAWA Yoshiki; SOEI PATENT AND LAW FIRM, Marunouchi MY PLAZA (Meiji Yasuda Life Bldg.) 9th fl., 1-1, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-228942 16.10.2012 JP
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING POROUS CARBON MATERIAL
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN MATÉRIAU DE TYPE CARBONE POREUX
(JA) 多孔質炭素材料の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a method for manufacturing a porous carbon material capable of using chlorine gas with good efficiency and reducing the environmental impact of chlorine gas. A method for manufacturing a porous carbon material has: a first step (S1) for exposing silicon carbide containing silicon and carbon in a heated atmosphere of a first gas (G1) containing chlorine gas to generate a porous carbon material and silicon tetrachloride containing silicon and chlorine; a second step (S2) for reacting silicon tetrachloride gas and a heated atmosphere of a second gas (G8) containing oxygen gas to generate a third gas (mixed gas G9) containing chlorine gas and silicon oxide containing silicon and oxygen; and a third step (S3) for recovering chlorine gas from a mixed gas (G10). The chlorine gas (G11) recovered from the mixed gas (G10) in the third step (S3) is used in the first step (S1) as a chlorine gas (G3) of the first gas (G1).
(FR)Cette invention concerne un procédé de production d'un matériau de type carbone poreux capable d'utiliser le chlore gazeux à une bonne efficacité et de réduire l'impact du chlore gazeux sur l'environnement. Le procédé de production du matériau de type carbone poreux selon l'invention comprend : une première étape (S1) consistant à exposer du carbure de silicium contenant du silicium et du carbone dans l'atmosphère chauffée d'un premier gaz (G1) contenant du chlore gazeux pour obtenir un matériau de type carbone poreux et du tétrachlorure de silicium contenant du silicium et du chlore; une deuxième étape (S2) consistant à faire réagir le tétrachlorure de silicium gazeux et l'atmosphère chauffée d'un deuxième gaz (G8) contenant de l'oxygène gazeux pour obtenir un troisième gaz (gaz mixte G9) contenant du chlore gazeux et de l'oxyde de silicium contenant du silicium et de l'oxygène; et une troisième étape (S3) consistant à récupérer le chlore gazeux à partir d'un gaz mixte (G10). Le chlore gazeux (G11) récupéré à partir du gaz mixte (G10) dans la troisième étape (S3) est utilisé dans la première étape (S1) à titre du chlore gazeux (G3) du premier gaz (G1).
(JA)塩素ガスを効率よく利用して、塩素ガスの環境負荷を低減することができる多孔質炭素材料の製造方法を提供する。多孔質炭素材料の製造方法は、塩素ガスを含む第1のガスG1の加熱雰囲気中に、ケイ素及び炭素を含む炭化ケイ素を曝して、ケイ素及び塩素を含む四塩化ケイ素と多孔質炭素材料とを生成する第1の工程S1と、酸素ガスを含む第2のガスG8の加熱雰囲気と四塩化ケイ素のガスとを反応させて、ケイ素及び酸素を含む酸化ケイ素と塩素ガスを含む第3のガス(混合ガスG9)とを生成する第2の工程S2と、混合ガスG10から塩素ガスを回収する第3の工程S3と、を有する。第3の工程S3において混合ガスG10から回収された塩素ガスG11は、第1のガスG1の塩素ガスG3として第1の工程S1に用いる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)