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1. (WO2014061570) NOUVEAU COMPOSÉ DIOL DE TYPE ALICYCLIQUE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/061570    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/077710
Date de publication : 24.04.2014 Date de dépôt international : 11.10.2013
CIB :
C07C 31/135 (2006.01), C07C 29/149 (2006.01), C07B 61/00 (2006.01)
Déposants : MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. [JP/JP]; 5-2, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008324 (JP)
Inventeurs : KITAMURA, Mitsuharu; (JP)
Mandataire : INABA, Yoshiyuki; TMI ASSOCIATES, 23rd Floor, Roppongi Hills Mori Tower, 6-10-1, Roppongi, Minato-ku, Tokyo 1066123 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-227838 15.10.2012 JP
Titre (EN) NOVEL ALICYCLIC-TYPE DIOL COMPOUND, AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) NOUVEAU COMPOSÉ DIOL DE TYPE ALICYCLIQUE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) 新規脂環式ジオール化合物、及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)This alicyclic-type diol compound is represented by a formula (1).
(FR)L'invention concerne un composé diol de type alicyclique représenté par la formule (1).
(JA) 本発明の脂環式ジオール化合物は、下記式(1)で表される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)