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1. (WO2014061522) PROCÉDÉ DE GRAVURE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/061522    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/077448
Date de publication : 24.04.2014 Date de dépôt international : 09.10.2013
CIB :
C23F 1/00 (2006.01), B05D 3/10 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H05K 3/06 (2006.01)
Déposants : MIMAKI ENGINEERING CO., LTD. [JP/JP]; 2182-3, Shigeno-Otsu, Tomi-city, Nagano 3890512 (JP)
Inventeurs : NAKAMURA, Norikazu; (JP)
Mandataire : WATANUKI PATENT SERVICE BUREAU; 12-9, Nakagosho 3-chome, Nagano-shi, Nagano 3800935 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-232130 19.10.2012 JP
Titre (EN) ETCHING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE GRAVURE
(JA) エッチング方法
Abrégé : front page image
(EN)In this etching method, the surface (11a) of a target object (11) is processed by using a corrosive agent to corrode said surface (11a) as a means of solving the problem addressed by the present invention. The etching method comprises: a resist formation step in which resist liquid is inkjet-printed on the surface (11a) so that the resist liquid forms a resist (12); a surface corrosion step in which the side (11a) of the target object (11) on which the resist (12) was formed by the resist formation step is brought into contact with a corrosive agent so that the part of the surface (11a) not having the resist (12) formed thereon is corroded; and a resist peeling step in which the resist (12) is peeled from the surface (11a) after the surface corrosion step. The etching method is characterized by the resist formation step being a step in which the resist (12) is formed using a resist liquid containing a monofunctional monomer or a monofunctional oligomer and a polyfunctional monomer or a polyfunctional oligomer.
(FR)L'invention concerne un procédé de gravure selon lequel une surface (11a) d'un objet (11) est usinée par corrosion de celle-ci à l'aide d'un agent corrosif, et qui comporte : une étape de formation de réserve au cours de laquelle une réserve (12) est formée à l'aide d'un liquide de réserve sur la surface (11a) par impression à jet d'encre de ce liquide de réserve sur la surface (11a) ; une étape de corrosion de surface au cours de laquelle une portion de non formation de la réserve (12) dans la surface (11a) subie une corrosion par mise en contact de l'agent corrosif côté surface (11a) de l'objet (11) sur laquelle la réserve (12) a été formée lors de l'étape de formation de réserve ; et une étape de pelage de réserve au cours de laquelle la réserve (12) et pelée à partir de la surface (11a) après l'étape de corrosion de surface. L'étape de formation de réserve est caractéristique en ce que la réserve (12) est formée à partir du liquide de réserve qui contient un monomère monofonctionnel ou un oligomère monofonctionnel, et un monomère polyfonctionnel ou un oligomère polyfonctionnel.
(JA)解決手段として、対象物(11)の表面(11a)を腐食剤によって腐食させることによって表面(11a)を加工するエッチング方法であって、表面(11a)にレジスト液をインクジェット印刷して表面(11a)にレジスト液によるレジスト(12)を形成するレジスト形成ステップと、レジスト形成ステップによってレジスト(12)が形成された対象物(11)の表面(11a)側に腐食剤を接触させることによって表面(11a)のうちレジスト(12)が形成されていない部分を腐食させる表面腐食ステップと、表面腐食ステップの後でレジスト(12)を表面(11a)から剥離させるレジスト剥離ステップとを備えており、レジスト形成ステップは、単官能モノマーまたは単官能オリゴマーと、多官能モノマーまたは多官能オリゴマーとを含むレジスト液によるレジスト(12)を形成するステップであることを特徴とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)