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1. (WO2014030919) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE CONTRÔLE DE RÉPARTITION D'IONS DANS UNE GAINE DE PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/030919    N° de la demande internationale :    PCT/KR2013/007486
Date de publication : 27.02.2014 Date de dépôt international : 21.08.2013
CIB :
H05H 1/00 (2006.01), G01N 21/00 (2006.01)
Déposants : INDUSTRY-ACADEMIA COOPERATION GROUP OF SEJONG UNIVERSITY [KR/KR]; (Sejong University, Gunja-dong) 209 Neungdong-ro Gwangjin-gu Seoul 143-747 (KR)
Inventeurs : KIM, Byung Whan; (KR)
Mandataire : TAEBAEK INTELLECTUAL PROPERTY LAW FIRM; #601 Innoplex 1 cha, 151Gasandigital 1-ro Geumcheon-gu Seoul 153-803 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2012-0091777 22.08.2012 KR
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR MONITORING ION DISTRIBUTION IN PLASMA SHEATH
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE CONTRÔLE DE RÉPARTITION D'IONS DANS UNE GAINE DE PLASMA
(KO) 플라즈마 쉬스 내의 이온 분포 모니터링 방법 및 장치
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a method and apparatus for monitoring ion distribution in a plasma sheath. The method comprises the steps of: taking, as an input, a first captured image of particles in a plasma chamber in a vacuum state; taking, as an input, a second captured image of the particles in the plasma chamber when gas has been injected into the plasma chamber and power is supplied to the plasma chamber; acquiring a first particle distribution and a second particle distribution using the grayscale values of the pixels constituting each sheath region in the first and second captured images; acquiring a corrected second particle distribution by subtracting the first particle distribution from the second particle distribution based on the grayscale values; and monitoring the ion distribution for the sheath region using the corrected second particle distribution. According to the present invention, the ion distribution in the sheath region can be easily monitored on a real-time basis using the grayscale values of the pixels constituting the sheath region in the captured images of the particles in the chamber.
(FR)La présente invention se rapporte à un procédé et à un appareil destinés à contrôler la répartition d'ions dans une gaine de plasma. Le procédé comprend les étapes consistant à : prendre, comme entrée, une première image capturée de particules dans une chambre de plasma dans un état de vide ; prendre, comme entrée, une seconde image capturée des particules dans la chambre de plasma lorsque du gaz a été injecté dans la chambre de plasma et que de l'énergie est apportée à la chambre de plasma ; obtenir une première répartition de particules et une seconde répartition de particules à l'aide des valeurs sur l'échelle de gros des pixels constituant chaque région de gaine dans les première et seconde images capturées ; obtenir une seconde répartition de particules corrigée en soustrayant la première répartition de particules à la seconde répartition de particules sur la base des valeurs sur l'échelle de gris ; et contrôler la répartition d'ions pour la région de gaine à l'aide de la seconde répartition de particules corrigée. Selon la présente invention, la répartition d'ions dans la région de gaine peut être facilement contrôlée sur une base en temps réel à l'aide des valeurs sur l'échelle de gros des pixels constituant la région de gaine dans les images capturées des particules dans la chambre.
(KO)본 발명은 플라즈마 쉬스 내의 이온 분포 모니터링 방법 및 장치로서, 진공 상태에서 플라즈마 챔버 내의 입자들에 대한 제1 촬상영상을 입력받는 단계, 플라즈마 챔버 내에 가스가 주입되고 파워가 인가된 상태에서 플라즈마 챔버 내에 존재하는 입자들에 대한 제2 촬상영상을 입력받는 단계, 제1 및 제2 촬상영상에서 각각의 쉬스(sheath)영역을 구성하는 픽셀들의 그레이스케일 값을 이용하여, 그레이스케일 값에 따른 제1 및 제2 입자수 분포를 각각 획득하는 단계, 그레이스케일 값에 따른 제2 입자수 분포에 대해 제1 입자수 분포를 차감하여 보정된 제2 입자수 분포를 획득하는 단계, 및 보정된 제2 입자수 분포를 이용하여 쉬스영역에 대한 이온 분포를 감시하는 단계를 포함한다. 이에 따르면, 챔버 내 입자들의 촬상영상에서 쉬스영역을 구성하는 픽셀들의 그레이 스케일 값을 이용하여 쉬스영역 내의 이온 분포를 실시간 손쉽게 감시할 수 있다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)