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1. (WO2014030711) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE POUR ENREGISTREMENT D'HOLOGRAMME ÉPAIS, SUBSTRAT PHOTOSENSIBLE POUR ENREGISTREMENT D'HOLOGRAMME ÉPAIS, ET CORPS D'ENREGISTREMENT D'HOLOGRAMME ÉPAIS

Pub. No.:    WO/2014/030711    International Application No.:    PCT/JP2013/072444
Publication Date: 27 févr. 2014 International Filing Date: 22 août 2013
IPC: G03H 1/02
C08L 101/12
G11B 7/244
Applicants: DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
大日本印刷株式会社
Inventors: AZAKAMI, Minoru
阿座上 実
ETO, Koji
衛藤 浩司
OIKAWA, Nobuko
老川 伸子
HAMADE, Eriko
浜出 枝里子
MIURA, Keisuke
三浦 啓介
Title: COMPOSITION PHOTOSENSIBLE POUR ENREGISTREMENT D'HOLOGRAMME ÉPAIS, SUBSTRAT PHOTOSENSIBLE POUR ENREGISTREMENT D'HOLOGRAMME ÉPAIS, ET CORPS D'ENREGISTREMENT D'HOLOGRAMME ÉPAIS
Abstract:
L'invention fournit : une composition photosensible pour enregistrement d'hologramme épais dont la sensibilité est améliorée lors d'un enregistrement d'hologramme, permettant d'obtenir une modulation d'indice de réfraction élevée et n'inhibant pas la décoloration d'un colorant sensibilisateur; un substrat photosensible pour enregistrement d'hologramme épais; et un corps d'enregistrement d'hologramme épais permettant d'obtenir une image holographique de haute luminance selon une productivité améliorée. La composition photosensible pour enregistrement d'hologramme épais comprend : des monomères photopolymérisables; un initiateur de photopolymérisation; un colorant sensibilisateur sensibilisant ledit initiateur de photopolymérisation; une résine liante; et un composé comprenant un groupe thiol. Lesdits monomères photopolymérisables incluent au moins un monomère polymérisable par voie photoradicalaire, et un monomère polymérisable par photocations. Ledit composé comprenant un groupe thiol consiste en un agent de transfert de chaîne dudit monomère polymérisable par voie photoradicalaire, et plus précisément, en un composé thiol secondaire multifonctionnel possédant au moins deux groupes thiol secondaires par molécule. En outre, la composition de l'invention comprend 1,5 à 30 parties en masse dudit composé comprenant un groupe thiol, pour 100 parties en masse dudit monomère polymérisable par voie photoradicalaire.