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1. (WO2014029978) MICROSCOPIE À ÉPUISEMENT D'ÉMISSION STIMULÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/029978    N° de la demande internationale :    PCT/GB2013/052183
Date de publication : 27.02.2014 Date de dépôt international : 16.08.2013
CIB :
G01N 21/64 (2006.01), G02B 21/00 (2006.01), G06T 5/00 (2006.01)
Déposants : ISIS INNOVATION LTD [GB/GB]; Ewert House Ewert Place, Summertown Oxford Oxfordshire OX2 7SG (GB)
Inventeurs : BOOTH, Martin; (GB).
BURKE, Daniel; (GB).
BEWERSDORF, Joerg; (US).
GOULD, Travis, J; (US)
Mandataire : ELKINGTON AND FIFE LLP; Prospect House 8 Pembroke Road Sevenoaks Kent TN13 1XR (GB)
Données relatives à la priorité :
61/692,367 23.08.2012 US
1217171.6 26.09.2012 GB
Titre (EN) STIMULATED EMISSION DEPLETION MICROSCOPY
(FR) MICROSCOPIE À ÉPUISEMENT D'ÉMISSION STIMULÉ
Abrégé : front page image
(EN)Aberrations in stimulated emission depletion microscopy are corrected using an adaptive optics approach using a metric which combines both image sharpness and brightness. Light modulators (22,32) are used to perform aberration correction in one or more of the depletion path (10), the excitation path (12), or the emission path from sample to detector.
(FR)La présente invention concerne des aberrations dans une microscopie à épuisement d'émission stimulé, qui sont corrigées à l'aide d'une approche d'optique adaptative, à l'aide d'une mesure qui associe la netteté et la luminosité de l'image. Des modulateurs (22, 32) de lumière sont utilisés pour réaliser la correction d'aberration dans l'un ou plusieurs du trajet d'épuisement (10), du trajet d'excitation (12) ou du trajet d'émission, de l'échantillon au détecteur.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)