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1. (WO2014025662) PROCÉDÉS DE FABRICATION DE SUBSTRATS POUR SPECTROSCOPIE RAMAN EXALTÉE DE SURFACE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/025662    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/053557
Date de publication : 13.02.2014 Date de dépôt international : 05.08.2013
CIB :
G01N 21/65 (2006.01), G01J 3/44 (2006.01), B82B 3/00 (2006.01)
Déposants : THE UNIVERSITY OF HOUSTON SYSTEM [US/US]; 4800 Calhoun Rd. Houston, TX 77204 (US)
Inventeurs : CHU, Wei-Kan; (US).
WIJESUNDERA, Dharshana, N.; (US).
RAJAPAKSA, Indrajith; (US)
Mandataire : STROZIER, Robert, W.; P.O. Box 429 Bellaire, TX 77402-0429 (US)
Données relatives à la priorité :
61/679,718 04.08.2012 US
61/679,767 05.08.2012 US
Titre (EN) METHODS FOR FABRICATION OF SUBSTRATES FOR SURFACE ENHANCED RAMAN SPECTROSCOPY
(FR) PROCÉDÉS DE FABRICATION DE SUBSTRATS POUR SPECTROSCOPIE RAMAN EXALTÉE DE SURFACE
Abrégé : front page image
(EN)Methods for fabricating metal nano-particle embedded enhancement substrates used for surface enhanced Raman spectroscopy (SERS) including ion implanting metal nano-particles into the substrate and etching the substrate to partially expose the metal nano-particles. The resulting material is useful as a SERS substrate for detection of molecules adsorbed on it by surface enhanced Raman spectroscopy.
(FR)Cette invention concerne des procédés de fabrication de substrats améliorés par incorporation de nanoparticules métalliques utilisés pour la spectroscopie Raman exaltée de surface (SERS), lesdits procédés comprenant l'implantation ionique de nanoparticules métalliques dans le substrat et la gravure du substrat pour exposer partiellement les nanoparticules métalliques. Le matériau obtenu est utile à titre de substrat SERS pour la détection de molécules adsorbées sur sa surface par spectroscopie Raman exaltée de surface.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)