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1. (WO2014024804) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE POUR RÉSINE DE MASQUE PERMANENT, ÉLÉMENT PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN MOTIF DE RÉSINE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE CARTE DE CIRCUIT IMPRIMÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/024804    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/071060
Date de publication : 13.02.2014 Date de dépôt international : 02.08.2013
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/027 (2006.01), H05K 3/28 (2006.01)
Déposants : HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. [JP/JP]; 9-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1006606 (JP)
Inventeurs : YORI Hanako; (JP).
OOTA Emiko; (JP).
MURAKAMI Yasuharu; (JP).
NAGOSHI Toshimasa; (JP).
TANAKA Shigeo; (JP)
Mandataire : HASEGAWA Yoshiki; SOEI PATENT AND LAW FIRM, Marunouchi MY PLAZA (Meiji Yasuda Life Bldg.) 9th fl., 1-1, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-174063 06.08.2012 JP
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR PERMANENT MASK RESIST, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE POUR RÉSINE DE MASQUE PERMANENT, ÉLÉMENT PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN MOTIF DE RÉSINE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE CARTE DE CIRCUIT IMPRIMÉ
(JA) 永久マスクレジスト用感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides a photosensitive resin composition for a permanent mask resist, the resin composition containing (A) an acid-modified vinyl group-containing epoxy resin, (B) a photopolymerization initiator and (C) a nitroxyl compound. The nitroxyl compound (C) contains a compound having a specific structure.
(FR)L'invention concerne une composition de résine photosensible pour une résine de masque permanent, laquelle composition de résine contient (A) une résine époxy contenant un groupe vinyle modifié par acide, (B) un initiateur de photo-polymérisation, et (C) un composé nitroxyle. Le composé nitroxyle (C) contient un composé ayant une structure spécifique.
(JA) 本発明は(A)酸変性ビニル基含有エポキシ樹脂と、(B)光重合開始剤と、(C)ニトロキシル化合物と、を含有し、(C)ニトロキシル化合物が、特定の構造を有する化合物を含む永久マスクレジスト用感光性樹脂組成物を提供する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)