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1. (WO2014024702) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE COMPOSÉ POLYMÈRE, COMPOSÉ POLYMÈRE ET COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/024702    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/070289
Date de publication : 13.02.2014 Date de dépôt international : 26.07.2013
CIB :
C08F 6/06 (2006.01), C08F 220/10 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01)
Déposants : DAICEL CORPORATION [JP/JP]; 3-4-5, Umeda, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300001 (JP)
Inventeurs : EGUCHI, Akira; (JP).
NISHIMURA, Masamichi; (JP)
Mandataire : GOTO, Yukihisa; Minamimorimachi Kyodo Bldg., 2nd Floor, 2-18, Kobai-cho, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300038 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-175428 07.08.2012 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING POLYMER COMPOUND, POLYMER COMPOUND, AND PHOTORESIST RESIN COMPOSITION
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE COMPOSÉ POLYMÈRE, COMPOSÉ POLYMÈRE ET COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
(JA) 高分子化合物の製造方法、高分子化合物、及びフォトレジスト用樹脂組成物
Abrégé : front page image
(EN)Provided are a method for producing a polymer compound that has a very low content of impurities such as metal components and has excellent preservation stability, a polymer compound obtained by this production method, and a photoresist resin composition containing the polymer compound. This method for producing a polymer compound comprises a step for using a filter that contains no strongly acidic cation exchange groups and exhibits a positive zeta potential to filter a resin solution containing a polymer compound having at least one species of monomer unit (a) selected from monomer units represented by formulae (a1) to (a3), and a monomer unit (b) comprising a group that is partially eliminated by acid to become alkali-soluble.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'un composé polymère qui présente une très faible teneur en impuretés telles que des composants métalliques et présente une excellente stabilité de conservation, un composé polymère obtenu par ce procédé de fabrication et une composition de résine photosensible contenant le composé polymère. Ce procédé de fabrication d'un composé polymère comprend une étape d'utilisation d'un filtre qui ne contient aucun groupe échangeur de cation fortement acide et présente un potentiel zêta positif pour filtrer une solution de résine contenant un composé polymère ayant au moins une espèce d'unité monomère (a) choisie parmi des unités monomères représentées par les formules (a1) à (a3), et une unité monomère (b) comprenant un groupe qui est partiellement éliminé par acide pour devenir soluble dans les alcalis.
(JA) 金属成分等の不純物含有量が極めて少なく、且つ保存安定性に優れた高分子化合物の製造方法、前記製造方法により得られる高分子化合物、及び前記高分子化合物を含有するフォトレジスト用樹脂組成物を提供する。 本発明の高分子化合物の製造方法は、下記式(a1)~(a3)で表されるモノマー単位から選択される少なくとも1種のモノマー単位a、及び酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性となる基を含むモノマー単位bを有する高分子化合物を含有する樹脂溶液を、強酸性陽イオン交換基を含まず、正のゼータ電位を示すフィルターを使用して濾過する工程を有する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)