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1. (WO2014023619) PROCÉDÉ D'EXPOSITION MICROLITHOGRAPHIQUE ET APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/023619    N° de la demande internationale :    PCT/EP2013/066041
Date de publication : 13.02.2014 Date de dépôt international : 30.07.2013
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE) (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW only).
PATRA, Michael [DE/DE]; (DE) (US only)
Inventeurs : PATRA, Michael; (DE)
Mandataire : FRANK, Hartmut; Bonsmann · Bonsmann · Frank Patentanwälte Reichspräsidentenstraße 21-25 45470 Mülheim a.d. Ruhr (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2012 214 052.2 08.08.2012 DE
61/680,751 08.08.2012 US
Titre (EN) MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE METHOD, AND MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ D'EXPOSITION MICROLITHOGRAPHIQUE ET APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to a microlithographic exposure method, wherein at least one mirror arrangement (120) having a plurality of mirror elements (120a, 120b, 120c,...), which are adjustable independently of one another for varying an angular distribution of the light reflected by the mirror arrangement, and a polarization-influencing optical arrangement (110, 500, 600, 700, 800) are used in the illumination device (10), wherein the method comprises the following steps: determining, for a predefined desired distribution of the intensity and of the polarization state in a pupil plane of the illumination device, a desired distribution of the Stokes vector (S) in said pupil plane; determining, for a current setting of the mirror elements and of the polarization-influencing optical arrangement, an actual distribution of the Stokes vector in the pupil plane; and modifying the setting of the mirror elements and/or of the polarization-influencing optical arrangement on the basis of a comparison between the actual distribution and the desired distribution, wherein in the comparison between the actual distribution and desired distribution, a component of the Stokes vector that describes the intensity is weighted more heavily than the components of the Stokes vector that respectively describe a degree of polarization.
(FR)La présente invention concerne un procédé d'exposition microlithographique, dans lequel au moins un agencement de miroir (120) ayant une pluralité d'éléments de miroir (120a, 120b, 120c,...), qui sont réglables indépendamment les uns des autres pour faire varier une distribution angulaire de la lumière réfléchie par l'agencement de miroir, et un agencement optique influençant la polarisation (110, 500, 600, 700, 800) sont utilisés dans le dispositif d'éclairage (10), le procédé comprenant les étapes suivantes : déterminer, pour une distribution désirée prédéfinie de l'intensité et de l'état de polarisation dans un plan de pupille du dispositif d'éclairage, une distribution désirée du vecteur de Stokes (S) dans ledit plan de pupille; déterminer, pour un réglage actuel des éléments de miroir et de l'agencement optique influençant la polarisation, une distribution réelle du vecteur de Stokes dans le plan de pupille; et modifier le réglage des éléments de miroir et/ou de l'agencement optique influençant la polarisation, sur la base d'une comparaison entre la distribution réelle et la distribution désirée, dans la comparaison entre la distribution réelle et la distribution désirée une composante du vecteur de Stokes qui décrit l'intensité étant pondérée de façon plus forte que les composantes du vecteur de Stokes qui décrivent de manière respective un degré de polarisation.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)