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1. (WO2014021634) COMPOSITION D'AGENT DE REVÊTEMENT POUR MEMBRANE DE SÉPARATION, MEMBRANE DE SÉPARATION FABRIQUÉE AVEC LA COMPOSITION D'AGENT DE REVÊTEMENT ET BATTERIE ASSOCIÉE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/021634    N° de la demande internationale :    PCT/KR2013/006893
Date de publication : 06.02.2014 Date de dépôt international : 31.07.2013
CIB :
C09D 179/08 (2006.01), C09D 7/12 (2006.01), H01M 2/16 (2006.01), H01M 10/052 (2010.01)
Déposants : SAMSUNG SDI CO., LTD. [KR/KR]; 150-20, Gongse-ro, Giheung-gu, Yongin-si, Gyeonggi-do 446-902 (KR)
Inventeurs : JEON, In Sik; (KR).
PARK, Jin Kyu; (KR).
CHUNG, Jun Ho; (KR).
HONG, Ki Chul; (KR).
LIM, Geon Ja; (KR)
Mandataire : AIP PATENT & LAW FIRM; 30-1, Teheran-ro 14-gil Gangnam-gu Seoul 135-935 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2012-0084536 01.08.2012 KR
Titre (EN) SEPARATION MEMBRANE COATING AGENT COMPOSITION, SEPARATION MEMBRANE MADE FROM COATING AGENT COMPOSITION, AND BATTERY USING SAME
(FR) COMPOSITION D'AGENT DE REVÊTEMENT POUR MEMBRANE DE SÉPARATION, MEMBRANE DE SÉPARATION FABRIQUÉE AVEC LA COMPOSITION D'AGENT DE REVÊTEMENT ET BATTERIE ASSOCIÉE
(KO) 분리막 코팅제 조성물, 상기 코팅제 조성물로 형성된 분리막 및 이를 이용한 전지
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a coating agent composition, which has excellent heat resistance and drying processibility, and uses a polyamic acid, which has high heat resistance and excellent solubility in a low-boiling point solvent. More specifically, the present invention relates to the coating agent composition containing the polyamic acid and the low-boiling point solvent of which the boiling point is lower than 150℃. Also, the present invention relates to a separation membrane of which heat resistance is enhanced by coating one or both surfaces of a polyolefin-based base material film with the coating agent composition, and to an electrochemical battery having improved thermal stability by using the separation membrane.
(FR)Cette invention concerne une composition d'agent de revêtement, qui présente une excellente résistance thermique et faculté à la dessiccation, et qui utilise un acide polyamique, qui présente une forte résistance thermique et une excellente solubilité dans un solvant à point d'ébullition faible. L'invention concerne plus précisément une composition d'agent de revêtement contenant l'acide polyamique et le solvant à point d'ébullition faible, dont le point d'ébullition est inférieur à 150 °C. L'invention concerne également une membrane de séparation dont la résistance thermique est améliorée en recouvrant l'une des deux faces ou les deux faces d'un film à base de polyoléfine de la composition d'agent de revêtement; l'invention concerne par ailleurs une batterie électrochimique présentant une meilleure stabilité thermique en utilisant la membrane de séparation.
(KO)본 발명은 고내열성이면서도 저비점 용매에서의 용해도가 우수한 폴리아믹산을 활용한, 내열성 및 건조 공정성이 우수한 코팅제 조성물에 관한 것이다. 구체적으로 본 발명은 폴리아믹산 및 비점이 150℃ 미만인 저비점 용매를 함유하는 코팅제 조성물에 관한 것이다. 또한 본 발명은 상기 코팅제 조성물로 폴리올레핀계 기재 필름의 일면 또는 양면을 코팅 처리하여 내열성을 향상시킨 분리막 및 상기 분리막을 이용하여 열적 안정성을 향상시킨 전기 화학 전지에 관한 것이다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)