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1. (WO2014020077) STRUCTURE TOPOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE LADITE STRUCTURE TOPOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/020077    N° de la demande internationale :    PCT/EP2013/066115
Date de publication : 06.02.2014 Date de dépôt international : 31.07.2013
CIB :
H01L 41/08 (2006.01), H01L 41/316 (2013.01), H03H 9/02 (2006.01), H03H 9/13 (2006.01)
Déposants : EPCOS AG [DE/DE]; St.-Martin-Straße 53 81669 München (DE)
Inventeurs : MARKSTEINER, Stephan; (DE)
Mandataire : EPPING HERMANN FISCHER PATENTANWALTSGESELLSCHAFT MBH, ZUSAMMENSCHLUSSNR. 175; Schlossschmidstr. 5 80639 Munich (DE)
Données relatives à la priorité :
102012107155.1 03.08.2012 DE
Titre (DE) TOPOGRAFISCHE STRUKTUR UND VERFAHREN ZU DEREN HERSTELLUNG
(EN) TOPOGRAPHICAL STRUCTURE AND METHOD FOR PRODUCING IT
(FR) STRUCTURE TOPOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE LADITE STRUCTURE TOPOGRAPHIQUE
Abrégé : front page image
(DE)Die Fertigung von BAW-Resonatoren beinhaltet üblicherweise das heteroepitaktische Aufwachsen einer Piezoschicht (PS) über Trägerund Metallschichten (TS, M1, M2). Diese Form des Schichtwachstums führt zu einer kolumnaren, polykristallinen Piezoschicht und resultiert in bekannten Wachstumsdefekten im Kristallgefüge entlang von Topologiestufen. Solche Wachstumsdefekte haben Konsequenzen für die technischen Eigenschaften und die Zuverlässigkeit der BAW- Resonatoren. Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, eine beispielsweise für BAW-Elektroden geeignete Struktur sowie ein Verfahren zu deren Herstellung anzugeben, mit denen die beim Herstellungsprozess auftretenden Probleme vermieden und die Korrosionsanfälligkeit bestimmter Metallschichten reduziert werden können. Dies gelingt mit Hilfe der erfindungsgemäßen topografische Struktur, bei der eine strukturierte Abdeckung (AB) entlang von Topologiestufen eine Kantenglättung bewirkt und einen Schutz für korrosionsempfindliche Metallschichten beinhaltet.
(EN)The production of BAW resonators usually comprises the heteroepitaxial growth of a piezo-layer (PS) above a carrier and metal layers (TS, M1, M2). This form of layer growth leads to a columnar, polycrystalline piezo-layer and results in known growth defects in the crystal microstructure along topology steps. Such growth defects have consequences for the technical properties and the reliability of the BAW resonators. Therefore, a problem addressed by the present invention is that of specifying a structure suitable for BAW electrodes, for example, and a method for producing said structure with which the problems that occur during the production process can be avoided and the susceptibility of specific metal layers to corrosion can be reduced. This is accomplished with the aid of the topographical structure according to the invention, in which a structured cover (AB) along topology steps brings about edge smoothing and includes protection for corrosion-sensitive metal layers.
(FR)L'invention concerne une structure topographique. Le procédé de fabrication de résonateurs BAW consiste habituellement à mettre en œuvre la croissance hétéroépitactique d'une couche piézoélectrique (PS) sur des supports et des couches métalliques (TS, M1, M2). Cette forme de croissance stratifiée permet d'obtenir une couche piézoélectrique polycristalline en colonne et se traduit par des défauts de croissance connus dans la structure cristalline le long d'étages topologiques. De tels défauts de croissance ont des répercussions sur les propriétés techniques et la fiabilité des résonateurs BAW. La présente invention vise par conséquent à mettre au point une structure adaptée par exemple à des électrodes BAW, ainsi que son procédé de fabrication, qui permettent d'éviter les problèmes apparaissant lors du processus de fabrication et de réduire la sensibilité à la corrosion de certaines couches métalliques. A cet effet, l'invention propose une structure topographique, avec laquelle un revêtement structuré (AB) le long d'étages topologiques produit un lissage des contours et renferme une protection pour des couches métalliques sensibles à la corrosion.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)