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1. (WO2014018868) SOURCE DE PLASMA POUR UNE GÉNÉRATION D'OSCILLATIONS NON LINÉAIRES, À LARGE BANDE, PÉRIODIQUES, DIRIGÉES ET ÉLASTIQUES ET SYSTÈME ET PROCÉDÉ DE STIMULATION DE PUITS, DE DÉPÔTS ET DE TROUS DE FORAGE À L'AIDE DE LADITE SOURCE DE PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/018868    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/052295
Date de publication : 30.01.2014 Date de dépôt international : 26.07.2013
CIB :
H05H 1/24 (2006.01), E21B 43/00 (2006.01)
Déposants : NOVAS ENERGY GROUP LIMITED [GB/US]; 1701 Commerce St, 2nd Floor Houston, Texas 77002 (US)
Inventeurs : AGEEV, P. G.; (RU).
MOLCHANOV, A. A.; (RU)
Mandataire : DINARDO, Michael A.; Kelly & Kelley, LLP 6320 Canoga Avenue, Suite 1650 Woodland Hills, California 91367 (US)
Données relatives à la priorité :
61/676,411 27.07.2012 US
61/684,988 20.08.2012 US
13/951,020 25.07.2013 US
Titre (EN) A SYSTEM AND METHOD FOR STIMULATING WELLS, DEPOSITS AND BOREHOLES USING THE PLASMA SOURCE
(FR) SOURCE DE PLASMA POUR UNE GÉNÉRATION D'OSCILLATIONS NON LINÉAIRES, À LARGE BANDE, PÉRIODIQUES, DIRIGÉES ET ÉLASTIQUES ET SYSTÈME ET PROCÉDÉ DE STIMULATION DE PUITS, DE DÉPÔTS ET DE TROUS DE FORAGE À L'AIDE DE LADITE SOURCE DE PLASMA
Abrégé : front page image
(EN)A plasma source for generating nonlinear, wide-band, periodic, directed, elastic oscillations in a fluid medium. The plasma source includes a plasma emitter having two electrodes defining a gap, a delivery device for introducing a metal conductor into the gap, and a high voltage transformer for powering the plasma emitter. A system and method for stimulating wells, deposits, and boreholes through controlled periodic oscillations generated using the plasma source. The system includes the plasma source, a ground control unit, and a support cable. In the method, the plasma source is submerged in the fluid medium of a well, deposit, or borehole and is used to create a metallic plasma in the gap. The metallic plasma emits a pressure pulse and shockwaves, which are directed into the fluid medium. Nonlinear, wide-band, periodic and elastic oscillations are generated in the fluid medium, including resonant oscillations by passage of the shockwaves.
(FR)La présente invention concerne une source de plasma destinée à générer des oscillations non linéaires, à large bande, périodiques, dirigées et élastiques dans un milieu fluidique. La source de plasma selon l'invention comprend un émetteur de plasma comportant deux électrodes délimitant un espace, un dispositif de pose permettant d'introduire un conducteur métallique dans l'espace, et un transformateur haute tension destiné à alimenter en puissance l'émetteur de plasma. L'invention concerne en outre un système et un procédé destinés à stimuler des puits, des dépôts et des trous de forage par l'intermédiaire d'oscillations périodiques commandées générées à l'aide de la source de plasma. Ledit système comprend la source de plasma, une unité de commande au sol et un câble de support. Selon le procédé de l'invention, la source de plasma est immergée dans le milieu fluidique d'un puits, d'un dépôt ou d'un trou de forage et est utilisée pour créer un plasma métallique dans l'espace. Le plasma métallique émet une impulsion de pression et des ondes de choc qui sont dirigées dans le milieu fluidique. Des oscillations non linéaires, à large bande, périodiques et élastiques sont générées dans le milieu fluidique, notamment des oscillations résonantes générées par le passage des ondes de choc.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)