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1. (WO2014018830) MATÉRIAU DE REVÊTEMENT COMPATIBLE AVEC LA CHIMIE POUR PERFORMANCE DE PARTICULE SUR PLAQUETTE DE DISPOSITIF AVANCÉE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/018830    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/052195
Date de publication : 30.01.2014 Date de dépôt international : 26.07.2013
CIB :
H01L 21/02 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US)
Inventeurs : SUN, Jennifer Y.; (US).
KANUNGO, Biraja Prasad; (US).
LUBOMIRSKY, Dmitry; (US)
Mandataire : PORTNOVA, Marina; 65 Livingston Avenue Roseland, New Jersey 07068 (US)
Données relatives à la priorité :
61/676,818 27.07.2012 US
13/830,608 14.03.2013 US
Titre (EN) CHEMISTRY COMPATIBLE COATING MATERIAL FOR ADVANCED DEVICE ON-WAFER PARTICLE PERFORMANCE
(FR) MATÉRIAU DE REVÊTEMENT COMPATIBLE AVEC LA CHIMIE POUR PERFORMANCE DE PARTICULE SUR PLAQUETTE DE DISPOSITIF AVANCÉE
Abrégé : front page image
(EN)To manufacture a coating for an article for a semiconductor processing chamber, the article including a body of at least one of Al, Al2O3, or SiC, and a ceramic coating on the body. The ceramic coating includes a compound comprising Y2O3 in a range from about 50 mol% to about 75 mol%, ZrO2 in a range from about 10 mol% to about 30 mol%, and Al2O3 in a range from about 10 mol% to about 30 mol%, wherein the number of nodules per inch is in a range from about 30 nodules to about 45 nodules and the porosity is in a range from about 2.5% to about 3.2%.
(FR)L'invention vise à fabriquer un revêtement pour un article pour une chambre de traitement de semi-conducteurs, l'article comprenant un corps d'au moins un élément parmi l'Al, l'Al2O3 ou le SiC, et un revêtement céramique sur le corps. Le revêtement céramique comprend un composé comprenant de l'Y2O3 dans une plage comprise entre environ 50 %mol et environ 75 %mol, du ZrO2 dans une plage comprise entre environ 10 %mol et environ 30 %mol, et de l'Al2O3 dans une plage comprise entre environ 10 %mol et environ 30 %mol, le nombre de nodules par pouce étant compris entre environ 30 nodules et environ 45 nodules et la porosité étant comprise entre environ 2,5 % et environ 3,2 %.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)