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1. (WO2014018372) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE FILMS CONTENANT DU NICKEL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/018372    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/051094
Date de publication : 30.01.2014 Date de dépôt international : 18.07.2013
CIB :
C23C 16/06 (2006.01), C23C 16/448 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95054 (US) (Tous Sauf US).
KNAPP, David [US/US]; (US) (US only).
THOMPSON, David [US/US]; (US) (US only)
Inventeurs : KNAPP, David; (US).
THOMPSON, David; (US)
Mandataire : CRISTALDI, Michelle, A.; Servilla Whitney LLC 33 Wood Avenue Sounth Second Floor, Suite 210 Iselin, NJ 08830 (US)
Données relatives à la priorité :
13/555,832 23.07.2012 US
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING NICKEL-CONTAINING FILMS
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE FILMS CONTENANT DU NICKEL
Abrégé : front page image
(EN)Provided are precursors and methods of using same to deposit film consisting essentially of nickel. Certain methods comprise providing a substrate surface; exposing the substrate surface to a vapor comprising a precursor having a structure represented by formula (I): wherein R1 is t-butyl and each R2 is each independently any C1-C3 alkyl group; and exposing the substrate to a reducing gas to provide a film consisting essentially of nickel on the substrate surface.
(FR)La présente invention concerne des précurseurs et des procédés d'utilisation de ceux-ci en vue de déposer un film constitué essentiellement de nickel. Certains procédés selon l'invention consistent à fournir une surface de substrat ; à soumettre ladite surface de substrat à l'action d'une vapeur comprenant un précurseur présentant une structure répondant à la formule (I), dans laquelle R1 est un t-butyle et chaque R2 est chacun indépendamment un groupe alkyle en C1 à C3 ; et à soumettre le substrat à l'action d'un gaz réducteur en vue de fournir un film constitué essentiellement de nickel sur la surface de substrat.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)