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1. (WO2014018285) SUPPORT DE SUBSTRAT RUGUEUX
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/018285    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/050365
Date de publication : 30.01.2014 Date de dépôt international : 12.07.2013
CIB :
C23C 16/458 (2006.01), B24C 1/00 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95054 (US) (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW only).
LEE, Dongsuh [KR/US]; (US) (US only).
STERLING, William, N. [US/US]; (US) (US only).
PARK, Beom, Soo [US/US]; (US) (US only).
CHOI, Soo, Young [KR/US]; (US) (US only)
Inventeurs : LEE, Dongsuh; (US).
STERLING, William, N.; (US).
PARK, Beom, Soo; (US).
CHOI, Soo, Young; (US)
Mandataire : PATTERSON, B., Todd; Patterson & Sheridan, LLP 24 Greenway Plaza, Suite 1600 Houston, TX 77046 (US)
Données relatives à la priorité :
61/676,790 27.07.2012 US
Titre (EN) ROUGHENED SUBSTRATE SUPPORT
(FR) SUPPORT DE SUBSTRAT RUGUEUX
Abrégé : front page image
(EN)The present invention generally relates to a substrate support for use in a substrate processing chamber. A roughened substrate support reduces arcing within the chamber and also contributes to uniform deposition on the substrate. The roughening can occur in two steps. In a first step, the substrate support is bead blasted to initially roughen the surfaces. Then, the roughened surface is bead blasted with a finer grit to produce a substrate support with a surface roughness of between about 707 micro-inches and about 837 micro-inches. Following the surface roughening, the substrate support is anodized.
(FR)La présente invention concerne de manière générale un support de substrat qui peut être utilisé dans une chambre de traitement de substrat. Un support de substrat rugueux permet de réduire la formation d'arc à l'intérieur de la chambre et contribue également à un dépôt uniforme sur le substrat. La rugosité est conférée en deux étapes. Dans une première étape, le support de substrat est soumis à une projection de billes afin de conférer une rugosité initiale aux surfaces. Ensuite, la surface rendue rugueuse est soumise à une projection de billes à grain plus fin, de manière à obtenir un support de substrat avec une rugosité de surface comprise entre environ 707 micropouces et environ 837 micropouces. Après le traitement permettant de rendre la surface rugueuse, le support de substrat est anodisé.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)