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1. (WO2014018170) TAMPON DE POLISSAGE DE VERRE NON PLAN ET PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/018170    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/044949
Date de publication : 30.01.2014 Date de dépôt international : 10.06.2013
CIB :
B24B 37/26 (2012.01)
Déposants : JH RHODES COMPANY, INC. [US/US]; 4625 South Wendler Drive Suite 111-50 Tempe, Arizona 85282 (US)
Inventeurs : MUNCY, Brent; (US).
ANDERSON, James; (US).
DASKIEWICH, Scott, B.; (US).
WASILCZYK, George, James; (US)
Mandataire : PLATT, John; Snell & Wilmer L.L.P. One Arizona Center 400 E. Van Buren Phoenix, Arizona 85004-2202 (US)
Données relatives à la priorité :
61/674,760 23.07.2012 US
Titre (EN) NON-PLANAR GLASS POLISHING PAD AND METHOD OF MANUFACTURE
(FR) TAMPON DE POLISSAGE DE VERRE NON PLAN ET PROCÉDÉ DE FABRICATION
Abrégé : front page image
(EN)A polishing pad, for polishing of a work piece having portions that are non-planar, the polishing pad comprising a first side and a second side of the polishing pad. The first side is substantially flat, and the second side is configured to polish the non-planar work piece. The polishing pad further comprises a concentric annular channel in the polishing pad, wherein the concentric annular channel comprises a channel surface, wherein the second side of the polishing pad comprises an inner surface, the channel surface, and an outer surface, and wherein the channel surface is recessed relative to the inner surface and outer surface. The polishing pad further comprises a plurality of islands located within the concentric annular channel, wherein the islands comprise an island surface that is raised relative to the channel surface.
(FR)La présente invention se rapporte à un tampon de polissage destiné à polir une pièce à usiner qui comporte des parties qui sont non planes, le tampon de polissage comprenant un premier côté et un second côté. Le premier côté est sensiblement plat et le second côté est configuré pour polir la pièce à usiner non plane. Le tampon de polissage comprend en outre un canal annulaire concentrique formé dans le tampon de polissage, le canal annulaire concentrique comprenant une surface de canal, le second côté du tampon de polissage comprenant une surface interne, la surface de canal et une surface externe et la surface de canal étant enfoncée par rapport à la surface interne et à la surface externe. Le tampon de polissage comprend en outre une pluralité d'îlots situés dans le canal annulaire concentrique, les îlots comprenant une surface d'îlot qui est surélevée par rapport à la surface de canal.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)