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1. (WO2014017819) COMPOSITION PERMETTANT D'ÉLIMINER ET DE PRÉVENIR LA FORMATION D'OXYDE À LA SURFACE D'UN FIL MÉTALLIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/017819    N° de la demande internationale :    PCT/KR2013/006615
Date de publication : 30.01.2014 Date de dépôt international : 24.07.2013
CIB :
C23F 1/44 (2006.01), C23F 1/10 (2006.01)
Déposants : LTC CO., LTD. [KR/KR]; 6F, Daego Bldg. 1591-10, Gwanyang-dong, Dongan-gu, Anyang-si Gyeonggi-do 431-060 (KR)
Inventeurs : CHOI, Ho Sung; (KR).
RYU, Kwang Hyun; (KR).
BAE, Jong Il; (KR).
LEE, Jong Soon; (KR).
YANG, Hye Sung; (KR).
HA, Sang Ku; (KR)
Mandataire : NAM & NAM WORLD PATENT & LAW FIRM; (KAL Bldg. 3rd Fl., Seosomun-dong) 117, Seosomun-ro, Jung-gu Seoul 100-813 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2012-0080440 24.07.2012 KR
Titre (EN) COMPOSITION FOR REMOVING AND PREVENTING FORMATION OF OXIDE ON THE SURFACE OF METAL WIRE
(FR) COMPOSITION PERMETTANT D'ÉLIMINER ET DE PRÉVENIR LA FORMATION D'OXYDE À LA SURFACE D'UN FIL MÉTALLIQUE
(KO) 금속 배선 표면의 산화물 제거 및 생성 방지용 조성물
Abrégé : front page image
(EN)The present invention proposes a method for removing an oxide formed on the surface of a copper film used in the process of manufacturing a circuit for a semiconductor, an organic light-emitting diode, an LED, or a liquid crystal display without causing corrosion on a lower metal film. The composition comprising corrosive amine may remove a metal oxide depending on the content of additive ranging from 0.01 to 10% regardless of the content of ultrapure water. A polar solvent other than the corrosive amine may efficiently remove an oxide from the surface of metal when same contains water and 0.01 to 20% of the additive.
(FR)La présente invention concerne un procédé permettant d'éliminer un oxyde formé à la surface d'un film de cuivre utilisé au cours du processus de fabrication d'un circuit destiné à un semiconducteur, à une diode électroluminescente organique, à une DEL, ou à un affichage à cristaux liquides sans provoquer de corrosion sur un film métallique inférieur. La composition comprenant une amine corrosive peut éliminer un oxyde métallique en fonction de la teneur en additif située dans la plage allant de 0,01 à 10 % indépendamment de la teneur en eau ultrapure. Un solvant polaire autre que l'amine corrosive peut éliminer efficacement un oxyde de la surface d'un métal lorsque celui-ci contient de l'eau et de 0,01 à 20 % de l'additif.
(KO)본 발명은 반도체, 유기 발광 다이오드, LED, 액정 표시용 회로 제조 공정에 사용되는 구리 막질의 표면에 형성되는 산화물을 하부 금속 막질에 부식의 영향없이 제거 할 수 있는 방법을 제안하는 것이다. 부식성 아민이 포함되어 있는 조성물에서는 초순수의 함유량에 상관없이 첨가물 0.01~10% 의 함유량에 따라 금속 산화물을 제거 할 수 있으며, 부식성 아민이 아닌 극성 용매에서는 물이 함유되었을 때 첨가물의 함량이 0.01~20% 함유량으로 존재할 때 금속 표면의 산화물을 효율적으로 제거 할 수 있다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)