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1. (WO2014017795) FEUILLE COMPLEXE, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, SUBSTRAT SOUPLE LA COMPRENANT ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE LA COMPRENANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/017795    N° de la demande internationale :    PCT/KR2013/006551
Date de publication : 30.01.2014 Date de dépôt international : 23.07.2013
CIB :
C08J 5/04 (2006.01), C08L 83/04 (2006.01), C08K 7/14 (2006.01), C08K 3/36 (2006.01)
Déposants : CHEIL INDUSTRIES INC. [KR/KR]; 290 Gongdan-dong Gumi-si Gyeongsangbuk-do 730-710 (KR)
Inventeurs : JEONG, Eun Hwan; (KR).
LEE, Woo Jin; (KR).
KIM, Sung Kook; (KR).
CHOI, Seok Won; (KR).
IM, Sung Han; (KR).
KIM, Young Kwon; (KR)
Mandataire : AJU KIM CHANG & LEE; 12-13th Floor, Saint Hiyan Building, 174 Saimdang-Ro Seocho-Gu Seoul 137-860 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2012-0080808 24.07.2012 KR
Titre (EN) COMPLEX SHEET, METHOD FOR MANUFACTURING SAME, FLEXIBLE SUBSTRATE INCLUDING SAME, AND DISPLAY DEVICE INCLUDING SAME
(FR) FEUILLE COMPLEXE, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, SUBSTRAT SOUPLE LA COMPRENANT ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE LA COMPRENANT
(KO) 복합시트, 이의 제조 방법, 이를 포함하는 플렉시블 기판 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a complex sheet, to a method for manufacturing same, to a flexible substrate including same, and to a display device including same, wherein the complex sheet comprising a matrix including a silicone-based resin and a reinforcement material impregnated in the matrix, and the complex sheet has a Young's modulus of about 2 MPa or more and a surface roughness (Ra) of about 50 nm or less.
(FR)La présente invention concerne une feuille complexe, un procédé de fabrication de celle-ci, un substrat souple la comprenant et un dispositif d'affichage la comprenant, la feuille complexe comprenant une matrice, comportant une résine à base de silicone et un matériau de renforcement imprégné dans la matrice, et la feuille complexe montrant un module de Young d'environ 2 MPa ou plus et une rugosité de surface (Ra) d'environ 50 nm ou moins.
(KO)본 발명은 실리콘계 수지를 포함하는 매트릭스, 및 상기 매트릭스에 함침된 보강재를 포함하고, Young's modulus가 약 2MPa 이상이고, 표면 조도(Ra)가 약 50nm 이하인 복합시트, 이의 제조방법, 이를 포함하는 플렉시블 기판, 및 이를 포함하는 디스플레이 장치에 관한 것이다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)