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1. (WO2014017542) POLYMÈRE HYPERRAMIFIÉ CONTENANT DU SILICIUM ET COMPOSITION DURCISSABLE LE CONTENANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/017542    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/070059
Date de publication : 30.01.2014 Date de dépôt international : 24.07.2013
CIB :
C08F 290/06 (2006.01), B32B 27/00 (2006.01), C08J 7/04 (2006.01), C09D 4/00 (2006.01), C09D 7/12 (2006.01), C09D 143/04 (2006.01), C09K 3/18 (2006.01)
Déposants : NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054 (JP)
Inventeurs : TAMURA, Hiroyasu; (JP).
MATSUYAMA, Motonobu; (JP).
HARAGUCHI, Masayuki; (JP)
Mandataire : HANABUSA, Tsuneo; c/o Hanabusa Patent Office, Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-167797 27.07.2012 JP
Titre (EN) SILICON-CONTAINING HYPERBRANCHED POLYMER AND CURABLE COMPOSITION CONTAINING SAME
(FR) POLYMÈRE HYPERRAMIFIÉ CONTENANT DU SILICIUM ET COMPOSITION DURCISSABLE LE CONTENANT
(JA) 含ケイ素高分岐ポリマー及びそれを含む硬化性組成物
Abrégé : front page image
(EN)[Problem] To provide a composition for forming a hard coat layer, which has high sliding properties and excellent water and oil repellency as well as excellent antifouling properties such as fingerprint resistance and dirt wiping-off properties, and which is able to be cured by commonly-used ultraviolet irradiation in a nitrogen atmosphere or in an air atmosphere. [Solution] A silicon-containing hyperbranched polymer which is obtained by polymerizing a monomer (A) that has two or more radically polymerizable double bonds in each molecule and a monomer (B) that has a polysiloxane chain and at least one radically polymerizable double bond in each molecule in the presence of a polymerization initiator (D) in an amount of 5-200% by mole relative to the number of moles of the monomer (A); a curable composition which contains the hyperbranched polymer; a cured film which is obtained from the composition; and a hard coat film which is obtained using the composition.
(FR)L'invention concerne une composition destinée à former une couche de revêtement dure, qui présente des propriétés de glissement élevées et une excellente aptitude à repousser l'eau et l'huile ainsi que d'excellentes propriétés antisalissure, telles que la résistance aux empreintes de doigt et l'élimination de saleté, et qui peut être durcie par irradiation ultraviolette utilisée couramment, dans une atmosphère d'azote ou dans une atmosphère d'air. La solution selon l'invention consiste en un polymère hyperramifié contenant du silicium, obtenu par polymérisation d'un monomère (A), qui présente deux doubles liaisons polymérisables par voie radicalaire, ou plus, dans chaque molécule, et un monomère (B), qui présente une chaîne polysiloxane et au moins une double liaison polymérisable par voie radicalaire dans chaque molécule, en présence d'un initiateur de polymérisation (D) en une quantité de 5-200 % en mole par rapport au nombre de moles du monomère (A) ; une composition durcissable qui contient le polymère hyperramifié ; un film durci obtenu à partir de la composition ; et un film de revêtement dur obtenu au moyen de la composition.
(JA)【課題】高滑り性と撥水撥油性に優れるとともに耐指紋性、汚れ拭き取り性等の防汚性にも優れる一方、一般的に使用されている窒素雰囲気下又は空気雰囲気下での紫外線照射により硬化可能なハードコート層形成用組成物を提供すること。 【解決手段】分子内に2個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマーAと、分子内にポリシロキサン鎖及び少なくとも1個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーBとを、該モノマーAのモル数に対して5~200モル%量の重合開始剤Dの存在下で重合させることにより得られる、含ケイ素高分岐ポリマー、該高分岐ポリマーを含む硬化性組成物、該組成物から得られる硬化膜、及び該組成物を用いて得られるハードコートフィルム。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)